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龍圖騰網獲悉西北工業大學寧波研究院;西北工業大學申請的專利超長焦深超分辨光針生成方法及其高深寬比激光直寫系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116520645B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310397526.7，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權超長焦深超分辨光針生成方法及其高深寬比激光直寫系統是由虞益挺;李文麗;赫培;紀海玉;安鋮旭設計研發完成，并于2023-04-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本超長焦深超分辨光針生成方法及其高深寬比激光直寫系統在說明書摘要公布了：本發明涉及一種長焦深超分辨光針生成方法及高深寬比激光直寫系統，采用多焦點拼接延長焦深的特點，結合遺傳算法突破傳統透鏡數值孔徑與焦深之間的矛盾，通過超振蕩透鏡對入射光場進行調控，實現高數值孔徑下長焦深光場，得到超越衍射極限的超長焦深超分辨光針光場；最終將這種超越衍射極限的超長焦深超分辨光針光場用來實現高深寬比激光直寫加工，實現線寬小于衍射極限且加工深度有一定要求的微納結構加工；另外，本發明產生的超長焦深超分辨光針光場不需要任何空間笨重復雜的機械結構可以直接實時獲取，使高深寬比激光直寫系統的架構更簡單且易于系統的小型化設計。

本發明授權超長焦深超分辨光針生成方法及其高深寬比激光直寫系統在權利要求書中公布了：1.一種超長焦深超分辨光針生成方法，其特征在于，包括： 步驟1、利用隨機數發生器產生N個相同的高數值孔徑相位掩膜，并基于矢量角譜理論分別計算N個高數值孔徑相位掩膜產生的N個光場，N個高數值孔徑相位掩膜作為初始種群，每個光場中的光軸上分布有M個焦點； 步驟2、設置優化目標，并根據優化目標給定約束條件，并設定光場光軸上的焦點拼接的要求，將高數值孔徑相位掩膜后的M個焦點進行拼接形成強度均勻、半高寬突破衍射極限的長焦深光針； 步驟3、將初始種群中的N個高數值孔徑相位掩膜作為遺傳算法種群中的染色體X=（X1，X2，...Xi，...XN）；Xi表示第i個高數值孔徑相位掩膜，設初始遺傳代數k=1； 步驟4、計算每個染色體中的適應度函數值； 步驟5、將當前種群中的染色體進行交叉、變異操作，并將步驟2中設定的約束條件作為懲罰函數項疊加到優化目標中，采用懲罰函數對當前種群內的各個染色體進行約束修正；生成下一代種群； 步驟6、判斷k是否達到預設的最大遺傳代數K，若達到，則終止優化，進入步驟7，否則，k=k+1，并將下一代種群作為遺傳算法種群中的染色體，返回步驟4； 步驟7、從當前種群中選擇適應度函數值最高的染色體，從而得到高數值孔徑相位掩膜對應的超長焦深超分辨光針。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西北工業大學寧波研究院;西北工業大學，其通訊地址為：315103 浙江省寧波市高新區清逸路218弄A3棟5樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。