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龍圖騰網(wǎng)獲悉TCL華星光電技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利陣列基板及其制作方法、顯示面板獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN117637772B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202311703436.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D86/40；該發(fā)明授權(quán)陣列基板及其制作方法、顯示面板是由駱官水;張寧;唐詩(shī);謝忠憬設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-12-12向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本陣列基板及其制作方法、顯示面板在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本申請(qǐng)公開(kāi)了一種陣列基板及其制作方法、顯示面板。陣列基板的制作方法包括：在襯底上形成橋接金屬層和柵極；在襯底上形成柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、第二金屬層以及第一保護(hù)層，柵極絕緣層覆蓋柵極和橋接金屬層；在第一保護(hù)層上形成厚度不同的三段式光刻膠，并以三段式光刻膠為掩模板，對(duì)第一保護(hù)層、第二金屬層、半導(dǎo)體層和柵極絕緣層進(jìn)行圖案化，圖案化后，第一保護(hù)層上剩余部分光刻膠；繼續(xù)在襯底上形成透明導(dǎo)電連接層；剝離剩余部分光刻膠，以使透明導(dǎo)電連接層形成間隔設(shè)置的導(dǎo)電連接層和像素電極；對(duì)未被導(dǎo)電連接層和像素電極覆蓋的第一保護(hù)層和第二金屬層進(jìn)行刻蝕。本申請(qǐng)旨在減少生產(chǎn)陣列基板所需的光罩?jǐn)?shù)量，簡(jiǎn)化工藝流程，降低生產(chǎn)成本。

本發(fā)明授權(quán)陣列基板及其制作方法、顯示面板在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，所述陣列基板的制作方法包括以下步驟： 在襯底上形成第一金屬層； 對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行圖案化，形成橋接金屬層和柵極； 在所述襯底上依次形成層疊的柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、第二金屬層以及第一保護(hù)層，所述柵極絕緣層覆蓋所述柵極和所述橋接金屬層； 在所述第一保護(hù)層上形成厚度不同的三段式光刻膠，并以所述三段式光刻膠為掩模板，對(duì)所述第一保護(hù)層、所述第二金屬層、所述半導(dǎo)體層以及所述柵極絕緣層進(jìn)行圖案化，圖案化后，所述第一保護(hù)層上剩余部分光刻膠； 繼續(xù)在所述襯底上形成透明導(dǎo)電層； 剝離所述剩余部分光刻膠，以使所述透明導(dǎo)電層形成間隔設(shè)置的導(dǎo)電連接層和像素電極；以及 對(duì)未被所述導(dǎo)電連接層和所述像素電極覆蓋的所述第一保護(hù)層和所述第二金屬層進(jìn)行刻蝕。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人TCL華星光電技術(shù)有限公司，其通訊地址為：518132 廣東省深圳市光明新區(qū)塘明大道9-2號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。