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龍圖騰網獲悉北京艾博智業離子技術有限公司申請的專利一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119958934B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510198531.4，技術領域涉及：G01N1/28；該發明授權一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀是由李英東設計研發完成，并于2025-02-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀在說明書摘要公布了：一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀，包括氣體導入單元、離子發生單元、調節單元以及高壓供給單元；所述氣體導入單元將氣體均勻導入離子發生單元內；所述離子發生單元電離氣體發射離子束；所述調節單元調節離子束射出的方向、角度以及聚焦位置。本發明通過設置調節單元進行離子束射出的方向、角度以及聚焦位置的調節，可以直接將離子束聚焦到離子減薄樣品室的試樣的中心減薄區，優化離子減薄樣品室每次放入試樣時都需要進行調節角度的問題。同時，套管和絕緣套管的環形凹槽和平臺設置，可以使氣體通過上下兩端更均勻的進入離子發生單元的內腔，使離子束的形成與發射更加平穩與高效。

本發明授權一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀在權利要求書中公布了：1.一種具有可調聚焦離子槍的離子減薄儀，其特征在于，包括氣體導入單元、離子發生單元、調節單元以及高壓供給單元；所述氣體導入單元將氣體均勻導入離子發生單元內；所述離子發生單元電離氣體發射離子束；所述調節單元調節離子束射出的方向、角度以及聚焦位置； 所述氣體導入單元包括套管、絕緣套管、螺紋直通接頭；所述套管上設環形的凹槽，用于使由螺紋直通接頭通入的氣體均勻充滿套管的內腔；所述絕緣套管上設第一平臺和第二平臺，用于使氣體通過絕緣套管上下兩端均勻穩定的進入離子發生單元的內腔； 所述離子發生單元包括陽極、陽極管、陰極片以及前端蓋，所述陽極管與所述陽極之間設調節單元，對陽極和陽極管之間距離的進行調整； 所述調節單元包括調節墊片，通過對陽極和陽極管之間距離的調整，來優化陽極與陰極片之間形成的電場，以調節離子束射出的方向、角度以及聚焦位置； 所述絕緣套管側壁外表面為階梯狀，靠近高壓供給單元的一端為上階梯，遠離高壓供給單元的一端為下階梯，上階梯外徑大于下階梯外徑，上階梯與下階梯通過斜面過渡；所述第一平臺設在上階梯的上下端，所述第二平臺設在下階梯的上下端；第一平臺位于所述套管與所述螺紋直通接頭連通處正下方，所述第二平臺對應所述第一平臺平行設置；所述第一平臺的寬度大于所述套管上環形的凹槽的寬度；第一平臺、第二平臺以及上下階梯的過渡斜面與套管之間形成間隙，用于氣體通過。

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