華海清科股份有限公司馬鈺皓獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華海清科股份有限公司申請的專利晶圓后處理裝置和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119833452B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510314832.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權晶圓后處理裝置和方法是由馬鈺皓;曹自立;李長坤;郭薇;高慶剛設計研發完成，并于2025-03-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本晶圓后處理裝置和方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種晶圓后處理裝置和方法，屬于半導體制造技術領域，該晶圓后處理裝置包括：箱體；支撐組件，設置于箱體中，其包括主動輪和從動輪，以豎向支撐并帶動晶圓轉動；清洗刷，水平設置于箱體中并繞軸線轉動，以刷洗晶圓；所述從動輪內部設置有墊圈，所述墊圈的外周壁配置有凹槽，用于卡接晶圓的邊緣；所述凹槽的第一內側壁和第二內側壁配置有紋理結構，以增強晶圓卡接的可靠性。
本發明授權晶圓后處理裝置和方法在權利要求書中公布了：1.一種晶圓后處理裝置，其特征在于，包括： 箱體； 支撐組件，設置于箱體中，其包括主動輪和從動輪，以豎向支撐并帶動晶圓轉動； 清洗刷，水平設置于箱體中并繞軸線轉動，以刷洗晶圓； 所述從動輪內部設置有墊圈，所述墊圈的外周壁配置有凹槽，用于卡接晶圓的邊緣；所述凹槽的第一內側壁和第二內側壁配置有紋理結構，以增強晶圓卡接的可靠性；所述紋理結構為凹凸結構，其沿墊圈的周向均勻分布；紋理結構包括間隔分布的多個凸起，相鄰凸起形成凹部；所述凸起刺破凹槽形成的液膜，以排出墊圈中的液體； 所述墊圈配置有排液孔，其貫通設置于凹槽且與環形槽相連通，所述環形槽同心設置于墊圈的側面，環形槽的深度大于凹部的深度，使得經由凹部進入凹槽中的含有顆粒物的液體在環形槽匯聚，并經由排液孔排放至墊圈外側。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華海清科股份有限公司，其通訊地址為：300350 天津市津南區咸水沽鎮聚興道11號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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