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龍圖騰網獲悉上海納琳威科技股份有限公司申請的專利基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理系統及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120448711B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510919109.3，技術領域涉及：G06F18/10；該發明授權基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理系統及方法是由付高輝;艾鵬俊;陳維設計研發完成，并于2025-07-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理系統及方法在說明書摘要公布了：本發明公開了基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理系統及方法，涉及數據分析技術領域，本方法包括以下步驟：步驟1、收集同批次完好薄膜光譜數據、擾動光譜樣本及對應環境參數；步驟2、對光譜數據進行去噪平滑、基線校正、導數運算及歸一化處理；步驟3、提取光譜關鍵特征構建向量，合并后用非負矩陣分解為基底和系數矩陣；步驟4、分別計算完好與擾動閾值，利用環境參數和系數偏移構建回歸模型；步驟5、采集實時光譜與環境參數，預處理后投影求解系數向量，動態調整判定基準并決策。本方法能夠有效改善現有技術中薄膜光譜門鎖管理主要依靠固定閾值，針對擾動和環境變化難以適應的情況。

本發明授權基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理系統及方法在權利要求書中公布了：1.基于數據分析的薄膜光譜門鎖管理方法，其特征在于：該方法包括以下步驟： 步驟1、收集同批次完好薄膜光譜數據、擾動光譜樣本及對應環境參數； 步驟2、對光譜數據進行去噪平滑、基線校正、導數運算及歸一化處理； 步驟3、提取光譜關鍵特征構建向量，合并后用非負矩陣分解為基底和系數矩陣； 步驟4、分別計算完好與擾動閾值，利用環境參數和系數偏移構建回歸模型； 步驟5、采集實時光譜與環境參數，預處理后投影求解系數向量，動態調整判定基準并決策； 在步驟4中，計算完好閾值R0：對完好樣本的系數向量{hj 0}j=1 P，計算質心μ0和協方差矩陣Σ0，定義完好閾值：R0=α·λmaxΣ012； 其中，P表示同批次完好薄膜在設定標準環境下的光譜數據數量；α表示經驗常數，λmaxΣ0表示協方差矩陣Σ0的最大特征值； 計算擾動閾值R1：計算所有擾動樣本系數向量與μ0的最大距離：R1=maxj=P+1 N||hj-μ0||2；其中，N=P+Σq=1 QNq；Q表示擾動類別數量；q∈{1,2,…,Q}，Nq表示第q類擾動對應的樣本個數； 利用環境參數集E和對應的系數偏移Δh=h-μ0，構建回歸模型：Δh=fE； 其中，f表示映射函數； 在步驟5中，當門鎖觸發識別流程時，采集當前薄膜的光譜數據Snew，同步獲取實時環境參數Enew； 對于采集到的薄膜的光譜數據Snew，執行預處理流程得到特征向量Dnew； 將預處理后的特征向量Dnew投影到基底矩陣W上，設定優化問題：hnew=argminh∥Dnew?W?h∥2 2，求解得到實時系數向量hnew； 根據實時環境參數Enew，預測系數偏移：Δh’=fEnew，并動態調整判定基準：μnew=μ0+Δh’；同時，分別對完好閾值和擾動閾值進行調整：R0′=R0?1+β?∥Enew?E0∥、R1′=R1?1+γ?∥Enew?E0∥； 其中，E0為標準環境參數，β和γ為環境敏感系數； 計算調整后的距離：d=∥hnew?μnew∥2；根據距離進行狀態判定：當d≤R0′時，判定為正常薄膜，允許開鎖；當R0′d≤R1′時，判定為受擾動薄膜，觸發預警但允許開鎖；當dR1′時，判定為非法薄膜，拒絕開鎖并觸發報警。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海納琳威科技股份有限公司，其通訊地址為：200082 上海市楊浦區國定支路26號2364室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。