恩智浦有限公司托馬斯·蘇瓦爾德獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉恩智浦有限公司申請的專利篡改檢測裝置、系統和方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112649024B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010991833.4,技術領域涉及:G01D5/241;該發明授權篡改檢測裝置、系統和方法是由托馬斯·蘇瓦爾德;斯特凡·梅爾設計研發完成,并于2020-09-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本篡改檢測裝置、系統和方法在說明書摘要公布了:描述了一種用于檢測在包裝方面的篡改的篡改檢測裝置,所述裝置包括:i包括第一經圖案化結構的第一電極,以及ii包括第二經圖案化結構的第二電極。所述第一電極和所述第二電極被布置成使得所述第一經圖案化結構和所述第二經圖案化結構彼此至少部分地相對。在所述第一經圖案化結構和所述第二經圖案化結構相對于彼此的第一布置狀態下,第一電容是可測量的,在所述第一經圖案化結構和所述第二經圖案化結構相對于彼此的第二布置狀態下,第二電容是可測量的,其中所述第一電容不同于所述第二電容,并且其中所述第一布置狀態不同于所述第二布置狀態。所述裝置另外包括:iii檢測單元。
本發明授權篡改檢測裝置、系統和方法在權利要求書中公布了:1.一種用于檢測在包裝170方面的篡改的篡改檢測裝置100,其特征在于,所述裝置100包括: 第一電極110,所述第一電極110包括第一經圖案化結構111; 第二電極120,所述第二電極120包括第二經圖案化結構121; 其中所述第一經圖案化結構111和或所述第二經圖案化結構121包括戈爾德碼圖案; 其中所述第一電極110和所述第二電極120被布置成使得所述第一經圖案化結構111和所述第二經圖案化結構121彼此至少部分地相對, 其中,在所述第一經圖案化結構111和所述第二經圖案化結構121相對于彼此的第一布置狀態下,第一電容是可測量的, 其中,在所述第一經圖案化結構111和所述第二經圖案化結構121相對于彼此的第二布置狀態下,第二電容是可測量的, 其中所述第一電容不同于所述第二電容,并且 其中所述第一布置狀態不同于所述第二布置狀態;以及 檢測單元130,其中所述檢測單元130被配置成: 測量所述第一電極110和所述第二電極120之間的電容, 基于測得的電容獲得指示所述布置狀態的信息,并且 基于指示所述布置狀態的所述信息評估是否檢測到在所述包裝170方面的篡改。
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