ASML荷蘭有限公司伊爾塞·范韋佩倫獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利量測測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115280242B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180019607.2，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權量測測量方法是由伊爾塞·范韋佩倫;H-K·尼恩惠斯;T·J·克嫩設計研發完成，并于2021-03-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本量測測量方法在說明書摘要公布了：用于確定在襯底中或襯底上制作的結構的、針對漂移誤差被補償的參數的方法和設備。所述方法包括：在多個時間時利用電磁輻射照射所述結構的至少一部分，所述結構的所述至少一部分處于第一定向；在所述多個時間時感測所述結構的所述至少一部分的多個平均反射比；以及基于所述多個平均反射比確定在一個或更多個其他時間時的對所述參數的估計。
本發明授權量測測量方法在權利要求書中公布了：1.一種確定在襯底中或襯底上制作的結構的、針對漂移誤差被補償的參數的方法，所述方法包括： 在多個時間時利用電磁輻射照射所述結構的至少一部分，所述結構的所述至少一部分處于第一定向； 在所述多個時間時感測所述結構的所述至少一部分的多個平均反射比，其中，所述平均反射比指示在所述多個時間時的所述參數，并且所述平均反射比涵蓋衍射光譜通量對入射于目標上的光譜通量的比率；以及 基于所述多個平均反射比，確定在一個或更多個其他時間時對所述參數的估計。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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