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          中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所林慧興獲國(guó)家專利權(quán)

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          龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所申請(qǐng)的專利一種高抗彎強(qiáng)度高Q值微波介質(zhì)材料及其制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN116730733B

          龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210209218.2,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C04B35/80;該發(fā)明授權(quán)一種高抗彎強(qiáng)度高Q值微波介質(zhì)材料及其制備方法是由林慧興;王思民;何飛;姜少虎;彭海益;任海深設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-03-03向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

          一種高抗彎強(qiáng)度高Q值微波介質(zhì)材料及其制備方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種高抗彎強(qiáng)度高Q值微波介質(zhì)材料及其制備方法。所述微波介質(zhì)材料的化學(xué)組成包括:鈮酸鎂基體、以及分散在鈮酸鎂基體中的片狀氧化物作為第二相;所述片狀氧化物相為片狀氧化鋁、片狀氧化錫、片狀氧化硅、片狀氧化鋯、片狀氧化鈦、片狀氧化鎢中的至少一種,0.1≤x≤5。

          本發(fā)明授權(quán)一種高抗彎強(qiáng)度高Q值微波介質(zhì)材料及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種具有高抗彎強(qiáng)度高Q值的微波介質(zhì)材料的制備方法,其特征在于,所述微波介質(zhì)材料的化學(xué)組成為鈮酸鎂基體、以及分散在鈮酸鎂基體中的片狀氧化物作為第二相;所述片狀氧化物相為片狀氧化鋁,片狀氧化鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為xwt%,x的取值范圍為0.1≤x<1;所述片狀氧化鋁的長(zhǎng)度為10~18μm,長(zhǎng)寬比為(6~9):1,厚度為800nm~3μm;所述鈮酸鎂基體中Mg元素和Nb元素的摩爾比為(1.03~1.05):2; 所述具有高抗彎強(qiáng)度高Q值的微波介質(zhì)材料的制備方法包括:將鈮酸鎂粉體和片狀氧化鋁粉體按照微波介質(zhì)材料的化學(xué)組成稱量并混合,再經(jīng)造粒和成型后,得到素坯;將所得素坯先以5~10℃分鐘的升溫速率升溫至1250~1300℃下保溫4~6小時(shí),再以1~5℃分鐘的降溫速率降溫至1000~1100℃下保溫4~6小時(shí),得到所述具有高抗彎強(qiáng)度高Q值的微波介質(zhì)材料。

          如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所,其通訊地址為:200050 上海市長(zhǎng)寧區(qū)定西路1295號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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