合肥芯碁微電子裝備股份有限公司程建高獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉合肥芯碁微電子裝備股份有限公司申請的專利直寫光刻設備及其的分區曝光方法及裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114721228B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210242537.3,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權直寫光刻設備及其的分區曝光方法及裝置是由程建高;董帥;趙美云;蔡健設計研發完成,并于2022-03-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本直寫光刻設備及其的分區曝光方法及裝置在說明書摘要公布了:本發明提出一種直寫光刻設備及其的分區曝光方法及裝置,方法包括:確定PCB板上每個原始分區對應的對位靶點的坐標;根據對位靶點的坐標確定與對位靶點對應的鄰域對位點的坐標;根據對位靶點的坐標及鄰域對位點的坐標重新確定PCB板的分區及與分區對應的變換模式;根據分區及變換模式確定所述分區的映射矩陣;根據映射矩陣確定目標曝光坐標,并根據目標曝光坐標對PCB板進行曝光。本發明通過采用相同的變換模式對PCB板的分區進行變換,并根據分區及變換模式確定分區的映射矩陣,根據映射矩陣確定目標曝光坐標,實現對PCB板的曝光,從而,避免在每個分區采用各自變換參數進行變換,導致分區之間出現錯位及白邊問題,提高了產品質量。
本發明授權直寫光刻設備及其的分區曝光方法及裝置在權利要求書中公布了:1.一種用于直寫光刻設備的分區曝光方法,其特征在于,包括: 確定PCB板上每個原始分區對應的對位靶點的坐標; 根據所述對位靶點的坐標確定與所述對位靶點對應的鄰域對位點的坐標; 根據所述對位靶點的坐標及所述鄰域對位點的坐標重新確定所述PCB板的分區及與所述分區對應的變換模式,其中,所述根據所述對位靶點的坐標及所述鄰域對位點的坐標重新確定所述PCB板的分區包括:確定距離所述對位靶點距離最遠的鄰域對位點,并將與所述對位靶點距離最遠的鄰域對位點之間的距離作為半徑,重新確定所述PCB板的分區; 根據所述分區及所述變換模式確定所述分區的映射矩陣; 根據所述映射矩陣確定目標曝光坐標,并根據所述目標曝光坐標對所述PCB板進行曝光。
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