芝浦機械電子裝置株式會社番塲隆札獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉芝浦機械電子裝置株式會社申請的專利清洗裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115810575B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211090891.5，技術領域涉及：H01L21/687；該發明授權清洗裝置是由番塲隆札設計研發完成，并于2022-09-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本清洗裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種清洗裝置，可減少清洗基板的外周端面的端面刷成為基板的污染源或維護時的障礙的情況。實施方式的清洗裝置具有：腔室，具有用于清洗所搬入的基板的清洗室；旋轉驅動部，在清洗室內使保持基板的外周的多個輥旋轉，由此對基板進行旋轉驅動；清洗液噴出部，對基板噴出清洗液；清洗部，使刷接觸旋轉的基板的至少其中一個面，由此清洗基板的面；外周清洗部，使端面刷接觸基板的外周端面，由此清洗基板的外周端面；收容腔室，具有收容外周清洗部的收容室；以及移動機構，使外周清洗部在可清洗外周端面的清洗位置、與收容于收容室的收容位置之間移動。
本發明授權清洗裝置在權利要求書中公布了：1.一種清洗裝置，其特征在于，包括： 腔室，具有用于清洗所搬入的基板的清洗室； 旋轉驅動部，在所述清洗室內使保持基板的外周的多個輥旋轉，由此對所述基板進行旋轉驅動； 清洗液噴出部，對所述基板噴出清洗液； 清洗部，使刷接觸旋轉的所述基板的至少其中一個面，由此清洗所述基板的面； 外周清洗部，使端面刷接觸所述基板的外周端面，由此清洗所述基板的所述外周端面； 收容腔室，具有收容所述外周清洗部的收容室； 移動機構，使所述外周清洗部在能夠清洗所述外周端面的清洗位置、與收容于所述收容室的收容位置之間移動；以及 遮蔽部，將所述收容室從所述清洗室遮蔽。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人芝浦機械電子裝置株式會社，其通訊地址為：日本神奈川縣橫浜市榮區笠間二丁目5番1號(郵遞區號:247-8610)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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