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          中國兵器科學(xué)研究院寧波分院;博格華納汽車零部件(寧波)有限公司唐盛明獲國家專利權(quán)

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          龍圖騰網(wǎng)獲悉中國兵器科學(xué)研究院寧波分院;博格華納汽車零部件(寧波)有限公司申請的專利一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN115971805B

          龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202211647162.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:B23P15/00;該發(fā)明授權(quán)一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法是由唐盛明;齊果;楊曉禹;張立君;齊子誠;董珈靜;康晶杰;鄭穎;郭琦;徐藝凡設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-12-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

          一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法,屬于材料加工技術(shù)領(lǐng)域。包括以下步驟:1銅合金下料;2機(jī)加工前處理工藝;3機(jī)加工處理;4機(jī)加工后處理;5磁控濺射前處理工藝;6磁控濺射處理工藝;7拋光微調(diào)。本發(fā)明通過磁控濺射處理工藝能有效的提高射線校正板的耐蝕性,同時增加粗糙度,從而降低成本和提高準(zhǔn)確度。

          本發(fā)明授權(quán)一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種工業(yè)CT散射線校正板的加工方法,其特征在于包括以下步驟: 1銅合金下料 根據(jù)CT設(shè)備所使用的散射線校正板的尺寸采用線切割對銅板進(jìn)行下料切割; 2機(jī)加工前處理工藝 切割完成后的構(gòu)件進(jìn)行超聲沖洗,去除表面油污和屑渣; 3機(jī)加工處理 根據(jù)構(gòu)件的大小與設(shè)備需求進(jìn)行微孔的開設(shè),同時將開孔后的構(gòu)件表面粗糙度處理至16微米以下; 4機(jī)加工后處理 將步驟3加工完成的構(gòu)件進(jìn)行超聲波水洗,去除表面油污和屑渣,再依次進(jìn)行化學(xué)除油、去離子水洗滌,清洗后采用常溫吹干; 5磁控濺射前處理工藝 首先需要采用丙酮和酒精對步驟4處理后的構(gòu)件進(jìn)行超生沖洗3~10min,完成后進(jìn)行晾干,然后在磁控濺射設(shè)備中采用高純度鎢靶轟擊5~20min,控制磁控濺射設(shè)備初始負(fù)偏壓為800-1000V、腔室壓力為5~7×10-4Pa、溫度為400~600℃; 6磁控濺射處理工藝 在空心陰極輔助多弧離子鍍復(fù)合沉積設(shè)備中采用高純度Ta10W靶沉積Wu膜層10~30min;繼續(xù)抽真空,進(jìn)行Ta10W膜層的沉積5-15min;WuTa-10W涂層如此往復(fù)2~3次后,沉積Wu膜層60~180min,形成一個多層結(jié)構(gòu)后,待構(gòu)件的各個涂層相互擴(kuò)散與熔合后,調(diào)節(jié)至常溫后冷卻構(gòu)件,對構(gòu)件進(jìn)行去離子水清洗; 7拋光微調(diào) 將步驟6獲得構(gòu)件采用拋光機(jī)與拋光布進(jìn)行拋光,然后進(jìn)行清洗,室溫下晾干,得到工業(yè)CT散射線校正板; 步驟3所述微孔呈梯形,所述微孔采用六軸數(shù)控鉆床進(jìn)行梯形微孔的加工,加工完成后采用數(shù)控車床進(jìn)行散射線校正板整體的加工,加工完成后保證表面粗糙度在16微米以下; 步驟6所述空心陰極輔助多弧離子鍍復(fù)合沉積設(shè)備中沉積Wu膜層時,空心陰極輔助多弧離子鍍復(fù)合沉積設(shè)備電流調(diào)節(jié)在80-150A,初始負(fù)偏壓為800-1000V,腔室壓力為5~7×10-4Pa,溫度為400~600℃,將反應(yīng)氣體Ar充入,流速為0.05~0.35Lmin; 所述形成一個多層結(jié)構(gòu)后,調(diào)節(jié)溫度為200~400℃,保溫時間為180~300min,使構(gòu)件的各個涂層相互擴(kuò)散與熔合。

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