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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海微創(chuàng)惟微診斷技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種核酸檢測(cè)試劑盒獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN118546760B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310171859.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C12M1/34；該發(fā)明授權(quán)一種核酸檢測(cè)試劑盒是由閻玉川;付滿良;盛盼龍;姚雨含;馬李豪;吳金龍;舒高烽;何志祥設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-02-27向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種核酸檢測(cè)試劑盒在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種核酸檢測(cè)試劑盒，包括封裝成一體的提取芯片、擴(kuò)增芯片和控制閥，所述提取芯片包括環(huán)向設(shè)置多個(gè)腔室以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置的旋轉(zhuǎn)閥，其中部分腔室為裂解結(jié)合腔、清洗反應(yīng)腔和洗脫反應(yīng)腔，所述旋轉(zhuǎn)閥上具有提取口，隨所述旋轉(zhuǎn)閥的轉(zhuǎn)動(dòng)所述提取口與其中一個(gè)所述腔室相通；所述擴(kuò)增芯片與所述提取芯片疊置，所述擴(kuò)增芯片具有擴(kuò)增反應(yīng)腔，所述控制閥用于控制所述洗脫反應(yīng)腔和所述擴(kuò)增反應(yīng)腔連通或斷開(kāi)，使待檢測(cè)物轉(zhuǎn)移到所述擴(kuò)增反應(yīng)腔。本發(fā)明提供的核酸檢測(cè)試劑盒，配合外部控制儀器實(shí)現(xiàn)了在封閉空間內(nèi)的核酸全自動(dòng)檢測(cè)，提高了核酸檢測(cè)的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性，同時(shí)可避免核酸檢測(cè)過(guò)程中試劑污染，環(huán)境污染等多種問(wèn)題。

本發(fā)明授權(quán)一種核酸檢測(cè)試劑盒在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種核酸檢測(cè)試劑盒，其特征在于，包括封裝成一體的提取芯片、頂蓋、擴(kuò)增芯片和控制閥， 所述提取芯片包括環(huán)向設(shè)置的多個(gè)腔室以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置的旋轉(zhuǎn)閥，其中部分腔室為裂解結(jié)合腔、清洗反應(yīng)腔和洗脫反應(yīng)腔，所述旋轉(zhuǎn)閥上具有提取口，隨所述旋轉(zhuǎn)閥的轉(zhuǎn)動(dòng)所述提取口與其中一個(gè)所述腔室相通； 所述頂蓋設(shè)置在所述提取芯片上，所述頂蓋上設(shè)置多個(gè)進(jìn)樣孔、多個(gè)通氣孔和提供壓強(qiáng)的通孔，所述多個(gè)進(jìn)樣孔分別與所述裂解結(jié)合腔、所述清洗反應(yīng)腔和所述洗脫反應(yīng)腔連通，所述多個(gè)通氣孔分別與所述裂解結(jié)合腔、所述清洗反應(yīng)腔連通，所述提供壓強(qiáng)的通孔通過(guò)微流道和所述洗脫反應(yīng)腔連通；所述頂蓋上設(shè)置有多個(gè)第一刻度線，每個(gè)腔室對(duì)應(yīng)一個(gè)所述第一刻度線，所述旋轉(zhuǎn)閥對(duì)應(yīng)設(shè)置第二刻度線，所述控制閥對(duì)應(yīng)設(shè)置第三刻度線；所述旋轉(zhuǎn)閥包括第一轉(zhuǎn)軸和第一密封墊，所述第一轉(zhuǎn)軸的一端套設(shè)所述第一密封墊，所述第一密封墊上設(shè)置所述提取口，所述第一轉(zhuǎn)軸的另一端設(shè)置第二刻度線；所述第一轉(zhuǎn)軸具有容置磁鐵用的空腔，所述第一轉(zhuǎn)軸外設(shè)置一圈凸緣，所述第一密封墊的內(nèi)側(cè)面與所述第一轉(zhuǎn)軸貼合，所述第一密封墊的端面和所述凸緣貼合； 所述擴(kuò)增芯片與所述提取芯片疊置，所述擴(kuò)增芯片具有擴(kuò)增反應(yīng)腔，所述控制閥用于控制所述洗脫反應(yīng)腔和所述擴(kuò)增反應(yīng)腔連通或斷開(kāi)，使待檢測(cè)物轉(zhuǎn)移到所述擴(kuò)增反應(yīng)腔；所述控制閥包括第二轉(zhuǎn)軸，所述第二轉(zhuǎn)軸的一端的側(cè)面設(shè)置所述第三刻度線，所述第二轉(zhuǎn)軸的另一端的端面上設(shè)置有微流道，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述第二轉(zhuǎn)軸控制所述控制閥上的微流道方向?qū)⑺鱿疵摲磻?yīng)腔與所述擴(kuò)增反應(yīng)腔連通或斷開(kāi)。

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