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龍圖騰網獲悉江蘇威金邁科技有限公司申請的專利基于除雜控制的連續鍍鎳工藝及裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118600495B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410727083.8，技術領域涉及：C25D3/12；該發明授權基于除雜控制的連續鍍鎳工藝及裝置是由王秋美;郭天柱;楊志敏;韓坤偉設計研發完成，并于2024-06-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于除雜控制的連續鍍鎳工藝及裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及電鍍技術領域，具體涉及基于除雜控制的連續鍍鎳工藝及裝置。本發明提供了一種基于除雜控制的連續鍍鎳工藝，基于連續鍍鎳生產線實施，包括預鍍工段、暗鍍工段、半亮鍍工段、亮鍍工段；第二電解除雜槽和第三電解除雜槽之間具有電磁閥和電動泵，具有電鍍液交互的能力，基于協同除雜算法實現可互通的協同除雜；本發明提供了針對連續電鍍生產線的多個電解除雜槽的技術方案，具有更高的除雜能力；提供了擬合函數的除雜控制方法，具有更好的趨勢分析性；通過導數的正負性來判定雜質變化趨勢的技術手段，保證了電解液的穩定，更有利于電鍍的質量穩定；提供了多個電解除雜槽可獨立、可協同的工作模式，可以實現相互幫扶的電解除雜。

本發明授權基于除雜控制的連續鍍鎳工藝及裝置在權利要求書中公布了：1.基于除雜控制的連續鍍鎳工藝，包括預鍍工段、暗鍍工段、半亮鍍工段、亮鍍工段，各工段分別設置有第一電解除雜槽、第二電解除雜槽、第三電解除雜槽和第四電解除雜槽； 其特征在于，所述第二電解除雜槽和第三電解除雜槽基于協同除雜算法實現可互通的協同除雜；所述協同除雜算法包括： S1、確定雜質種類；通過分析廢舊電解液的成分，確定雜質離子的種類； S2、雜質濃度采樣；以預設的時間間隔，分別對第二電解除雜槽和第三電解除雜槽中的雜質離子的濃度進行檢測，得到第二槽雜質濃度數據集合和第三槽雜質濃度數據集合；其中，為采樣序號，為自然數；和分別表示在第次采樣時的第二槽雜質濃度和第三槽雜質濃度； S3、擬合得到雜質濃度函數；分別對第二槽雜質濃度數據集合和第三槽雜質濃度數據集合進行擬合，得到時間相關的第二槽雜質濃度函數和第三槽雜質濃度函數； S4、對雜質濃度曲線求導；對第二槽雜質濃度函數和第三槽雜質濃度函數進行時間為求導，得到第二槽雜質濃度趨勢函數和第三槽雜質濃度趨勢函數； S5、電解除雜連續控制；根據第二槽雜質濃度趨勢函數和第三槽雜質濃度趨勢函數的正負性，判定雜質濃度是否穩定，若不穩定，則調整電解除雜的電流密度；具體包括： S51、判定任一時刻的第二槽雜質濃度趨勢函數和第三槽雜質濃度趨勢函數的正負性，若滿足： T1：或，且持續時間超過預設的時間閾值，則判定第二槽雜質濃度不穩定； T1：或，且持續時間超過預設的時間閾值，則判定第三槽雜質濃度不穩定； S52、對于出現雜質濃度不穩定的情況，則調整對應的電解除雜槽的電流密度： 若或，則減小對應的電解除雜槽的電流密度： 若或，則增大對應的電解除雜槽的電流密度； S53、若任一電解除雜槽的電流密度已經增大至最大許可值，仍然存在或的情況，則打開第二電解除雜槽和第三電解除雜槽之間的電磁閥和電動泵，進行電鍍液的協同除雜。

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