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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣東歐萊高新材料股份有限公司申請(qǐng)的專利一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119553227B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411622639.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/08；該發(fā)明授權(quán)一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法是由李天柱;文宏福;盧寬寬;李鵬;吳旭明設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-11-14向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，本發(fā)明在制備靶材步驟中采用球體形狀、棱錐體形狀和足球狀的氧化銦粉制備靶材，且棱錐體形狀和足球形狀的氧化銦粉的質(zhì)量占比在20％以上，足球形狀的粉體與其它粉體之間接觸為面與面接觸，球體形狀與其它粉體之間的接觸為點(diǎn)接觸，足球形狀的氧化銦粉有利于在保證粉體流動(dòng)性的同時(shí)提高靶材的電子遷移率以及靶材的密度。通過直流磁控濺射鍍膜機(jī)濺射鍍膜得到氧化物薄膜，將得到的氧化物薄膜置于大氣環(huán)境中并在不同溫度下退火30±5min，得到高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜，提高ITO薄膜的電導(dǎo)率以及透過率，滿足透明導(dǎo)電氧化物薄膜對(duì)于高遷移率的超高要求。

本發(fā)明授權(quán)一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種直流磁控濺射高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于：包括以下步驟， 制備靶材步驟， 將形狀分別為球體形狀、棱錐體形狀和足球形狀的氧化銦粉混合得到氧化銦粉末，其中，形狀為棱錐體形狀和足球形狀的氧化銦粉在全部氧化銦粉中的質(zhì)量占比大于20％，足球形狀的氧化銦粉與其它粉體之間接觸為面與面接觸，球體形狀的氧化銦粉與其它粉體之間接觸為點(diǎn)接觸； 采用化學(xué)沉淀法制備得到形狀為足球形狀的所述氧化銦粉，形狀為足球形狀的氧化銦粉是表面由多個(gè)多邊形臺(tái)體相鄰拼接而成的多面體結(jié)構(gòu)； 根據(jù)質(zhì)量百分比，先將95-99.4wt％的氧化銦粉末和0.1-4.8wt％的氧化錫粉攪拌均勻，再依次加入0.1-0.3wt％的氧化釔粉和0.1-0.4wt％的氧化銻粉以及余量的氧化碲粉，攪拌混合均勻，得到第一粉體， 然后將第一粉體倒入砂磨機(jī)中，加入分散劑去離子水以及10±5％的乙醇，固含量控制在55±5％，進(jìn)行進(jìn)一步砂磨1h±0.5，得到第一漿料， 往第一漿料中加入粘結(jié)劑聚乙烯醇，含量0.5±0.2wt.％，研磨1±0.5h，得到第二漿料， 使用第二漿料進(jìn)行噴霧造粒，進(jìn)風(fēng)口溫度為200±50℃，排風(fēng)溫度為90±10℃，得到第一干粉， 將第一干粉進(jìn)行旋風(fēng)分離，得到粒徑D90＝300±50nm的第二干粉， 將第二干粉裝入橡膠模具中，進(jìn)行裝填，采用超聲波輔助，提高第二干粉在模具中的振實(shí)密度，放入冷等靜壓中進(jìn)行壓制成型，壓力設(shè)置為30±5MPa并保壓30±5min，然后再調(diào)整為280±20MPa并保壓2±0.5h，然后再以10±2MPa的梯度逐漸降低壓力，以釋放內(nèi)部應(yīng)力，得到生坯， 將生坯放入燒結(jié)爐中進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)，通入900-1000sccm的空氣和20-35sccm的氧氣，控制燒結(jié)爐以0.5±0.1℃min的梯度升溫至650±10℃，保溫3±1h；然后以1±0.2℃min的梯度將溫度升溫至1500-1600℃，保溫250±20h，然后以相應(yīng)的速率將溫度降低至室溫， 然后將靶材按照相應(yīng)的圖紙進(jìn)行機(jī)加工以及綁定加工得到高遷移率濺射靶材； 鍍膜步驟，將高遷移率濺射靶材安裝到直流磁控濺射鍍膜機(jī)上，通過直流磁控濺射鍍膜機(jī)濺射鍍膜得到氧化物薄膜，并將氧化物薄膜的薄膜厚度控制在100±10nm，將得到的氧化物薄膜置于大氣環(huán)境中不同溫度下退火30±5min，得到高遷移率透明導(dǎo)電氧化物薄膜。

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