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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海三菲半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)的專利一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120109649B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510570996.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01S5/34；該發(fā)明授權(quán)一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法是由楊軍設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-05-06向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法，采用有機(jī)溶劑將襯底進(jìn)行清洗以去除表面的污染物和氧化物；將氮?dú)馔ㄈ敫稍锴鍧嵉姆磻?yīng)器；將襯底放置在反應(yīng)器中的載盤上，并將反應(yīng)器加熱到生長(zhǎng)溫度；使用流量控制器將源氣體引入反應(yīng)器，控制各種源氣體的流量；通過反應(yīng)器自動(dòng)控制膜層的厚度；生長(zhǎng)完成后，逐漸降低反應(yīng)器溫度，冷卻完畢后，取出所有襯底及觀測(cè)片，通過高分辨率X射線衍射測(cè)量和光致發(fā)光測(cè)量，確認(rèn)晶體生長(zhǎng)的量子阱的張應(yīng)變與設(shè)計(jì)相符，以確保外延片的晶體質(zhì)量和器件性能。本發(fā)明可以使激光器的閾值電流在同等條件下降低50%；采用了特殊的量子阱設(shè)計(jì)，具有高增益和窄線寬的技術(shù)效果，具有推廣應(yīng)用的價(jià)值。

本發(fā)明授權(quán)一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器的制備方法，其特征在于，所述具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器有源層采用多個(gè)具有相同或不同張應(yīng)力的寬量子阱，所述有源層的結(jié)構(gòu)由多個(gè)張應(yīng)變的寬量子阱和量子勢(shì)壘交替形成，其具體的層疊結(jié)構(gòu)為：勢(shì)壘空穴注入層、寬量子阱1、勢(shì)壘層1、寬量子阱2、勢(shì)壘層2…寬量子阱N、勢(shì)壘層N，每層寬量子阱厚度14nm，所述具有低閾值電流的脊波導(dǎo)模擬激光器外延結(jié)構(gòu)的制備方法包括以下步驟： S1：采用有機(jī)溶劑將襯底進(jìn)行清洗以去除表面的污染物和氧化物； S2：將氮?dú)馔ㄈ敫稍锴鍧嵉姆磻?yīng)器，所述反應(yīng)器為低壓金屬有機(jī)氣相外延反應(yīng)器； S3：將襯底放置在反應(yīng)器中的載盤上，并將反應(yīng)器加熱到生長(zhǎng)溫度720℃； S4：使用流量控制器將源氣體引入反應(yīng)器，控制各種源氣體的流量，所述源氣體中In、Ga、Al為III族源氣體，As為V族源氣體，V族源氣體與III族源氣體的比例為100：1； S5：通過反應(yīng)器自動(dòng)控制膜層的厚度； S6：生長(zhǎng)完成后，逐漸降低反應(yīng)器溫度，冷卻完畢后，取出所有襯底及觀測(cè)片，通過高分辨率X射線衍射測(cè)量和光致發(fā)光測(cè)量，驗(yàn)證實(shí)際外延的量子阱張應(yīng)變應(yīng)力與設(shè)計(jì)相符，并確認(rèn)量子阱的晶體質(zhì)量結(jié)晶度，從而實(shí)現(xiàn)激光器閾值電流的優(yōu)化。

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