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龍圖騰網(wǎng)獲悉珠海誠(chéng)鋒電子科技有限公司申請(qǐng)的專利一種晶圓六面檢測(cè)系統(tǒng)及方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120356851B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510812481.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)一種晶圓六面檢測(cè)系統(tǒng)及方法是由孫元宏;許金誠(chéng);陳杰設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種晶圓六面檢測(cè)系統(tǒng)及方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明公開一種晶圓六面檢測(cè)系統(tǒng)及方法，包括：晶粒上料糾偏模塊，用于確定待檢測(cè)晶粒的位置，得到晶粒的位置補(bǔ)償值；表面特征數(shù)據(jù)獲取模塊，用于基于晶粒的表面輪廓圖像，獲取晶粒表面特征數(shù)據(jù)；晶粒表面質(zhì)量模塊，用于構(gòu)建晶粒表面質(zhì)量評(píng)估模型，識(shí)別晶粒表面質(zhì)量；側(cè)面特征數(shù)據(jù)獲取模塊，用于基于晶粒側(cè)面輪廓圖像，獲取晶粒側(cè)面特征數(shù)據(jù)；晶粒側(cè)面質(zhì)量模塊，用于構(gòu)建晶粒側(cè)面質(zhì)量評(píng)估模型，識(shí)別晶粒側(cè)面質(zhì)量；晶粒下料處理模塊，用于對(duì)晶粒進(jìn)行下料處理。通過(guò)本發(fā)明提供的技術(shù)方法，顯著提高了晶粒檢測(cè)的精度、效率與智能化程度，具有廣泛的適用性和擴(kuò)展性，可廣泛應(yīng)用于多種工藝類型與材料的晶粒質(zhì)量檢測(cè)。

本發(fā)明授權(quán)一種晶圓六面檢測(cè)系統(tǒng)及方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種晶圓六面檢測(cè)方法，其特征在于，所述方法包括： 通過(guò)上料糾偏相機(jī)獲取待檢測(cè)的晶粒圖像，使用霍夫變換算法將晶粒的邊緣輪廓中的邊緣點(diǎn)轉(zhuǎn)換為幾何參數(shù)，確定待檢測(cè)晶粒的位置，得到晶粒的位置補(bǔ)償值； 通過(guò)Canny邊緣檢測(cè)算法提取晶粒的表面輪廓圖像，并基于晶粒的表面輪廓圖像，獲取晶粒表面輪廓圖像的形狀因子、反射率梯度特征和紋理特征，構(gòu)建晶粒表面特征數(shù)據(jù)； 根據(jù)晶粒表面輪廓圖像特征數(shù)據(jù)、材料、工藝類型和規(guī)格，構(gòu)建晶粒表面質(zhì)量評(píng)估模型，識(shí)別晶粒表面質(zhì)量； 通過(guò)Canny邊緣檢測(cè)算法提取晶粒的側(cè)面輪廓，并基于晶粒側(cè)面輪廓圖像，獲取晶粒側(cè)面輪廓圖像的形狀因子、紋理特征、晶界寬度和晶界面積，構(gòu)建晶粒側(cè)面特征數(shù)據(jù)； 根據(jù)晶粒側(cè)面輪廓圖像特征數(shù)據(jù)、材料、工藝類型和規(guī)格，構(gòu)建晶粒側(cè)面質(zhì)量評(píng)估模型，識(shí)別晶粒側(cè)面質(zhì)量； 根據(jù)晶粒表面質(zhì)量評(píng)估結(jié)果和晶粒側(cè)面質(zhì)量評(píng)估結(jié)果，對(duì)晶粒進(jìn)行下料處理； 其中，基于晶粒側(cè)面輪廓圖像，獲取晶粒側(cè)面輪廓圖像的紋理特征，包括： 根據(jù)晶粒側(cè)面輪廓圖像，使用加權(quán)平均法將圖像的RGB通道值轉(zhuǎn)換為單一的灰度值；若電動(dòng)滑臺(tái)搭載光學(xué)相機(jī)運(yùn)動(dòng)，光照角度發(fā)生變化，則使用灰度值補(bǔ)償單元，根據(jù)光照角度，對(duì)晶粒側(cè)面輪廓灰度圖像中的每個(gè)像素的灰度值進(jìn)行補(bǔ)償；根據(jù)補(bǔ)償后的灰度值，獲取晶粒側(cè)面輪廓的灰度圖像，并提取灰度共生矩陣；根據(jù)晶粒側(cè)面輪廓圖像的灰度共生矩陣，基于同質(zhì)性計(jì)算公式計(jì)算同質(zhì)性，并基于對(duì)比度計(jì)算公式計(jì)算對(duì)比度，將同質(zhì)性和對(duì)比度作為晶粒側(cè)面輪廓圖像的紋理特征； 其中，所述根據(jù)光照角度，對(duì)晶粒側(cè)面輪廓灰度圖像中的每個(gè)像素的灰度值進(jìn)行補(bǔ)償，包括: 對(duì)于晶粒側(cè)面輪廓圖像中的每個(gè)像素，計(jì)算每個(gè)像素周圍鄰域的平均灰度值，并結(jié)合光照角度，使用光照補(bǔ)償公式，計(jì)算光照補(bǔ)償因子，其中，是圖像中像素x,y的原始灰度值，是該像素周圍鄰域的平均灰度值，用來(lái)衡量局部光照強(qiáng)度，是一個(gè)常數(shù)，防止除零錯(cuò)誤，通過(guò)歷史數(shù)據(jù)擬合獲得，是一個(gè)系數(shù)，控制光照變化的影響強(qiáng)度，通過(guò)歷史數(shù)據(jù)擬合獲得，是該像素的法線與光照方向的夾角，表示光照的角度變化，反映了表面光照條件的變化；根據(jù)光照補(bǔ)償因子，使用公式，對(duì)晶粒側(cè)面輪廓圖像中的每個(gè)像素進(jìn)行光照補(bǔ)償，得到補(bǔ)償后的灰度值。

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