ASML荷蘭有限公司J·加西亞圣克拉拉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于在光刻過程中改善襯底的均勻性的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114641731B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080077443.4，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于在光刻過程中改善襯底的均勻性的方法是由J·加西亞圣克拉拉;J·M·芬德斯;H·F·赫夫納格爾斯;G·里斯朋斯設計研發完成，并于2020-10-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于在光刻過程中改善襯底的均勻性的方法在說明書摘要公布了：提供了一種處理襯底的方法，所述襯底具有形成在其上的金屬氧化物抗蝕劑層，所述方法包括以下步驟：將所述襯底曝光于圖案化輻射以形成包括位于所述金屬氧化物抗蝕劑層中的多個特征的圖案；將所述襯底的包括至少一個所述特征的一部分曝光于調節輻射，由此引起所述金屬氧化物抗蝕劑層在所述部分中收縮。也提供使計算機設備執行上述方法的計算機程序、和其上存儲有這種計算機程序的計算機程序產品，正如具有適于執行上述方法或運行上述程序的處理器的設備，諸如光刻設備。所述方法和設備可以導致臨界尺寸均勻性的改善。
本發明授權用于在光刻過程中改善襯底的均勻性的方法在權利要求書中公布了：1.一種處理襯底的方法，所述襯底具有形成在其上的金屬氧化物抗蝕劑層，所述方法包括以下步驟： 將所述襯底曝光于圖案化輻射以形成包括位于所述金屬氧化物抗蝕劑層中的多個特征的圖案； 將所述襯底的包括至少一個所述特征的一部分曝光于調節輻射，由此引起所述金屬氧化物抗蝕劑層在所述部分中收縮。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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