東京毅力科創株式會社杉本貴史獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利加熱裝置、基片處理系統和加熱方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113903681B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110648411.1,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權加熱裝置、基片處理系統和加熱方法是由杉本貴史;高橋裕之;岡野真也設計研發完成,并于2021-06-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本加熱裝置、基片處理系統和加熱方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種加熱裝置、基片處理系統和加熱方法,在處理裝置的外部預先對基片進行加熱并將加熱后的基片用輸送機構保持并輸送到處理裝置情況下,能夠使到達處理裝置的時刻的基片的溫度在基片面內均勻。一種在向處理裝置輸送基片之前對該基片進行加熱的加熱裝置,在外部設置有在該加熱裝置與所述處理裝置之間保持并輸送基片的輸送機構,所述加熱裝置包括支承基片的支承部和具有出射光的發光元件的加熱部,所述加熱部能夠利用所述光來將支承于所述支承部的基片按俯視時劃分的每個區域相互獨立地進行加熱,與所述輸送機構的基片保持部接觸的基片內的區域所對應的所述發光元件的光輸出,比基片內的其他區域所對應的所述發光元件的光輸出高。
本發明授權加熱裝置、基片處理系統和加熱方法在權利要求書中公布了:1.一種加熱裝置,其在向處理裝置輸送基片之前對該基片進行加熱,其特征在于: 在所述加熱裝置的外部設置有在該加熱裝置與所述處理裝置之間保持并輸送基片的輸送機構, 所述加熱裝置包括: 支承基片的支承部;和 加熱部, 所述加熱部具有: 基座; 發光元件,其設置在所述基座的下表面,出射光來將支承于所述支承部的基片按俯視時劃分的每個區域相互獨立地進行加熱;和 控制電路板,其搭載于所述基座的與所述下表面相反的上表面,且具有存儲器,所述存儲器存儲有:與所述輸送機構的基片保持部接觸的所述基片內的第一區域所對應的所述發光元件的第一光輸出值;和不與所述輸送機構接觸的所述基片內的第二區域所對應的所述發光元件的第二光輸出值,所述控制電路板基于所述存儲器中存儲的所述第一光輸出值和所述第二光輸出值來控制所述發光元件的光輸出, 所述控制電路板基于所述存儲器中存儲的所述第一光輸出值和所述第二光輸出值,將與所述輸送機構的基片保持部接觸的基片內的所述第一區域所對應的所述發光元件的光輸出,設置為比不與所述輸送機構接觸的基片內的所述第二區域所對應的所述發光元件的光輸出高,以使得與所述輸送機構的基片保持部接觸的基片內的所述第一區域的溫度比不與所述輸送機構接觸的所述基片內的所述第二區域的溫度提高了預測向所述處理裝置的輸送中由于所述輸送機構的基片保持部的熱吸收而降低的量。
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