元平臺技術有限公司珍妮·阿什利·麥克尼爾獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉元平臺技術有限公司申請的專利體光柵中的折射率廓線的變跡獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116348804B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180071000.9，技術領域涉及：G02B5/18；該發明授權體光柵中的折射率廓線的變跡是由珍妮·阿什利·麥克尼爾;馬文·迪翁·阿里姆;奧斯汀·萊恩;楊洋;卡沃斯·約拉布奇設計研發完成，并于2021-10-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本體光柵中的折射率廓線的變跡在說明書摘要公布了：可以通過將光聚合物層曝光于光柵形成光以在光聚合物層中形成周期性折射率變化來制造光柵耦合器。光聚合物層可以曝光于變跡光，從而以空間選擇性方式減小周期性折射率變化的幅度。也可以通過使光聚合物層的一個或多個外表面經受化學反應劑來實現或促進變跡，該化學反應劑使得在應用的一個或多個表面附近的折射率對比度減小。光柵的變跡折射率廓線有助于降低光柵耦合器的不同光柵之間的光學串擾。
本發明授權體光柵中的折射率廓線的變跡在權利要求書中公布了：1.一種制造光柵耦合器的方法，所述方法包括： 將在相對的第一表面與第二表面之間具有厚度的光聚合物層曝光于光柵形成光，從而在所述光聚合物層中形成周期性折射率變化；以及 將所述光聚合物層的所述第一表面曝光于變跡光，從而減小所述第一表面附近的所述周期性折射率變化的幅度。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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