洪恩完美(北京)教育科技發(fā)展有限公司武志偉獲國家專利權
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龍圖騰網(wǎng)獲悉洪恩完美(北京)教育科技發(fā)展有限公司申請的專利場景模型的渲染方法、裝置及設備獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114119818B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產權局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202111372560.6,技術領域涉及:G06F17/00;該發(fā)明授權場景模型的渲染方法、裝置及設備是由武志偉設計研發(fā)完成,并于2021-11-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本場景模型的渲染方法、裝置及設備在說明書摘要公布了:本申請公開了一種場景模型的渲染方法、裝置及設備,涉及渲染技術領域,整個渲染過程不需要加入法線貼圖和高光貼圖,避免了場景中大量貼圖素材的制作流程,從一定程度上節(jié)省了渲染引擎端的性能消耗,減少渲染批次。其中方法包括:針對待渲染靜態(tài)場景中的素材分別創(chuàng)建場景對象的低精度模型和高精度模型;設置待渲染靜態(tài)場景中的環(huán)境信息,并利用環(huán)境信息對高精度模型進行渲染,得到光影信息和顏色信息;通過制作低精度模型對位高精度模型,將高精度模型渲染得到的光影信息和顏色信息繪制成的顏色貼圖和光照貼圖,傳遞給低精度模型;傳輸攜帶有顏色貼圖和光照貼圖的低精度模型至渲染引擎。
本發(fā)明授權場景模型的渲染方法、裝置及設備在權利要求書中公布了:1.一種場景模型的渲染方法,其特征在于,應用于制作教育類應用程序的終端設備中,包括: 針對待渲染靜態(tài)場景中的素材分別創(chuàng)建場景對象的低精度模型和高精度模型; 設置所述待渲染靜態(tài)場景中的環(huán)境信息,并利用所述環(huán)境信息對所述高精度模型進行渲染,得到光影信息和顏色信息; 通過制作所述低精度模型對位所述高精度模型,將所述高精度模型渲染得到的光影信息和顏色信息繪制成的顏色貼圖和光照貼圖,傳遞給所述低精度模型,具體將所述低精度模型與所述高精度模型在三維空間中放置在同一位置上;針對所述低精度模型使用映射功能,將映射源選擇至所述高精度模型,在具有映射的低精度模型上修改映射框架,以使得所述高精度模型的所有部分完全被包裹在所述映射框架中;選擇所述具有映射的低精度模型,使用烘焙功能將所述高精度模型渲染得到的光影信息和顏色信息繪制到低精度模型展開所形成預設材質類型的紋理資源貼圖上,得到光照貼圖和顏色貼圖;將所述光照貼圖和顏色貼圖貼回至所述低精度模型,所述預設材質類型的紋理資源貼圖為與光影信息和顏色信息具有貼合效果的貼圖; 傳輸所述攜帶有顏色貼圖和光照貼圖的低精度模型至渲染引擎,以使得所述渲染引擎根據(jù)所述顏色貼圖和光照貼圖對低精度模型進行渲染。
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