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龍圖騰網(wǎng)獲悉京東方科技集團股份有限公司;南京京東方顯示技術(shù)有限公司申請的專利陣列基板及其制造方法、探測裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116207118B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310296347.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10F39/18；該發(fā)明授權(quán)陣列基板及其制造方法、探測裝置是由王賢娜;王杰;古宏剛設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-03-23向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本陣列基板及其制造方法、探測裝置在說明書摘要公布了：本申請實施例提供了一種陣列基板及其制造方法、探測裝置。該陣列基板，包括：薄膜晶體管結(jié)構(gòu)，設(shè)置在基底的一側(cè)；薄膜晶體管結(jié)構(gòu)包括有源結(jié)構(gòu)、柵極和源漏極，柵極設(shè)置在有源結(jié)構(gòu)遠離基底的一側(cè)，源漏極設(shè)置在柵極遠離有源結(jié)構(gòu)的一側(cè)；第一電極結(jié)構(gòu)，設(shè)置在基底的一側(cè)；第一電極結(jié)構(gòu)與有源結(jié)構(gòu)，同層且相互分隔，通過源漏極電連接；光電器件結(jié)構(gòu)，設(shè)置在第一電極結(jié)構(gòu)遠離基底的一側(cè)；遮光結(jié)構(gòu)，設(shè)置在薄膜晶體管結(jié)構(gòu)和基底之間，遮光結(jié)構(gòu)與源漏極電連接。本申請實施例提供的陣列基板，有效降低光漏電噪音，有效降低X射線的照光劑量。

本發(fā)明授權(quán)陣列基板及其制造方法、探測裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種陣列基板，其特征在于，包括至少一個感光子像素，所述感光子像素包括： 基底； 薄膜晶體管結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述基底的一側(cè)，所述薄膜晶體管結(jié)構(gòu)包括有源結(jié)構(gòu)、柵極和源漏極，所述柵極設(shè)置在所述有源結(jié)構(gòu)遠離所述基底的一側(cè)，所述源漏極設(shè)置在所述柵極遠離所述有源結(jié)構(gòu)的一側(cè)； 第一電極結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述基底的一側(cè)；所述第一電極結(jié)構(gòu)與所述有源結(jié)構(gòu)，同層且相互分隔，通過所述源漏極電連接； 光電器件結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述第一電極結(jié)構(gòu)遠離所述基底的一側(cè)； 遮光結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述薄膜晶體管結(jié)構(gòu)和所述基底之間，所述遮光結(jié)構(gòu)與所述源漏極電連接。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人京東方科技集團股份有限公司;南京京東方顯示技術(shù)有限公司，其通訊地址為：100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。