上海艾普強(qiáng)粒子設(shè)備有限公司許文貞獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海艾普強(qiáng)粒子設(shè)備有限公司申請的專利一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng)和方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN117031530B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202311166293.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01T7/00;該發(fā)明授權(quán)一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng)和方法是由許文貞;孫建義;潘文君;陳小龍設(shè)計研發(fā)完成,并于2023-09-11向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng)和方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng)和方法,該系統(tǒng)包括順次放置的中子靶裝置、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、束流垃圾桶、中子準(zhǔn)直器和測試臺,其中,中子靶裝置用于產(chǎn)生高產(chǎn)額中子;偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)用于使經(jīng)中子靶裝置后剩余的質(zhì)子束流偏轉(zhuǎn);束流垃圾桶用于收集屏蔽偏轉(zhuǎn)的質(zhì)子束流和輻射場;中子準(zhǔn)直器用于屏蔽需要消除的背景中子輻射場;測試臺用于對消除背景中子輻射場后的高能窄譜中子劑量進(jìn)行標(biāo)定。本方案能夠提高寬能譜中子輻射檢測儀對高能中子劑量標(biāo)定的準(zhǔn)確性。
本發(fā)明授權(quán)一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng)和方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種寬能譜中子輻射檢測儀的劑量標(biāo)定系統(tǒng),其特征在于,包括順次放置的中子靶裝置、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、束流垃圾桶、中子準(zhǔn)直器和測試臺, 所述中子靶裝置用于使質(zhì)子束流產(chǎn)生高產(chǎn)額中子;所述偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)用于使經(jīng)中子靶裝置后剩余的質(zhì)子束流偏轉(zhuǎn);所述束流垃圾桶用于收集屏蔽偏轉(zhuǎn)的質(zhì)子束流和輻射場;所述中子準(zhǔn)直器用于屏蔽需要消除的背景中子輻射場;所述測試臺用于對消除背景中子輻射場后的高能窄譜中子劑量進(jìn)行標(biāo)定,其中,所述中子靶裝置采用鋰靶,所述鋰靶采用2-167mgcm2的鋰靶膜,所述鋰靶膜的厚度與單能中子的產(chǎn)額成正比;所述偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)采用環(huán)形halbach永磁鐵陣列使經(jīng)中子靶裝置之后剩余的質(zhì)子束流產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),所述環(huán)形halbach永磁鐵陣列的磁場強(qiáng)度為1.5T;所述環(huán)形halbach永磁鐵陣列的好場區(qū)范圍為20mm,用于使能量為70MeV-235MeV的質(zhì)子束流的偏轉(zhuǎn)角度在10°到5°范圍內(nèi);所述束流垃圾桶放置在偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)對質(zhì)子束流的偏轉(zhuǎn)角度范圍內(nèi),所述束流垃圾桶中充滿水。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人上海艾普強(qiáng)粒子設(shè)備有限公司,其通訊地址為:201800 上海市嘉定區(qū)上海嘉定工業(yè)區(qū)葉城路1411號2幢一層A區(qū);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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