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龍圖騰網(wǎng)獲悉準(zhǔn)力機(jī)械股份有限公司申請(qǐng)的專利一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116967927B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202311247253.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B24B37/08；該發(fā)明授權(quán)一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置是由林馨堂;林志杰;何啟成設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-09-26向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置，包括一線性驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)一定位座上下移動(dòng)，復(fù)數(shù)根引流管分別設(shè)置在定位座，數(shù)個(gè)彈性罩分別套接各引流管，一轉(zhuǎn)接座設(shè)置在一承架，數(shù)個(gè)分流器間隔配置在承架，轉(zhuǎn)接座的內(nèi)部形成數(shù)個(gè)中繼道，各彈性罩分別與各中繼道逐一形成上下對(duì)應(yīng)，各中繼道的另一端分別連通數(shù)根中繼管，各中繼管分別連通各分流器，每一個(gè)分流器分別對(duì)應(yīng)連接數(shù)根輸送管，據(jù)此控制流體進(jìn)入晶圓研磨設(shè)備的上研磨盤及受其研磨的晶圓片之間。

本發(fā)明授權(quán)一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種晶圓研磨設(shè)備的去真空的流體控制裝置，所述晶圓研磨設(shè)備具有一上研磨盤用于研磨晶圓片的上表面，上研磨盤貫穿數(shù)個(gè)信道，各信道分別延伸至上研磨盤的頂端及底端，所述流體控制裝置用于控制流體通過各通道進(jìn)入上研磨盤及晶圓片之間，所述的流體是水或空氣； 流體控制裝置其特征在于包括： 一線性驅(qū)動(dòng)器，固定設(shè)置在晶圓研磨設(shè)備；線性驅(qū)動(dòng)器為氣壓缸或油壓缸； 一定位座連接線性驅(qū)動(dòng)器，且定位座位于線性驅(qū)動(dòng)器及上研磨盤的頂緣側(cè)之間，線性驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)定位座上下移動(dòng)而接近或遠(yuǎn)離上研磨盤的頂緣側(cè)： 數(shù)根引流管分別定位設(shè)置在定位座，各引流管分別連通流體的供應(yīng)源，且各引流管分別向著上研磨盤的頂緣側(cè)延伸，數(shù)個(gè)彈性罩分別套接各引流管面向頂緣側(cè)的一端，各彈性罩分別于內(nèi)部形成一錐狀空間連通各引流管； 一轉(zhuǎn)接座設(shè)置在一承架，承架連接上研磨盤，轉(zhuǎn)接座的內(nèi)部配合各引流管形成數(shù)個(gè)中繼道，各中繼道的一端分別延伸至轉(zhuǎn)接座的頂緣，各錐狀空間分別與各中繼道逐一形成上下對(duì)應(yīng)，各中繼道的另一端分別延伸至轉(zhuǎn)接座的一側(cè)連通數(shù)根中繼管； 數(shù)個(gè)分流器間隔配置在承架，各中繼管分別連通各分流器，每一分流器分別對(duì)應(yīng)連接數(shù)根輸送管，各輸送管分別連通各通道，流體通過各通道進(jìn)入上研磨盤及晶圓片之間。

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