華中科技大學臧劍鋒獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華中科技大學申請的專利一種超聲成像系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN118873168B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202410996096.5,技術領域涉及:A61B8/00;該發明授權一種超聲成像系統是由臧劍鋒;田野;潘章琪;余楊;李昱立;唐瀚川設計研發完成,并于2024-07-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種超聲成像系統在說明書摘要公布了:本發明公開了一種超聲成像系統,屬于超聲成像技術領域,包括多頻成像探頭和多頻成像探頭;本發明基于聲學反射薄膜與生物組織的聲學反射特性差異,通過多頻成像探頭向表面貼附有聲學反射薄膜的待成像組織發射多個頻率的超聲信號,所發射的超聲信號頻率包括兩種頻率類型,第一頻率類型的頻率小于聲學反射薄膜的截止頻率fth,第二頻率類型的頻率大于或等于fth;fth屬于聲學反射薄膜反射率與超聲信號頻率之間的關系曲線階躍下降的頻率區域;通過成像處理模塊將第一頻率類型和第二頻率類型下的超聲成像結果進行差分運算,得到待成像組織的超聲成像結果;當對軟組織進行成像時,能夠提高軟組織超聲圖像的對比度。
本發明授權一種超聲成像系統在權利要求書中公布了:1.一種超聲成像系統,其特征在于,包括: 多頻成像探頭,用于向待成像組織發射多個頻率的超聲信號,并接收貼附在待成像組織表面的聲學反射薄膜反射的對應反射信號;所述聲學反射薄膜的截止頻率fth的取值范圍為區間[f1,f2],f1和f2分別為所述聲學反射薄膜的反射率與超聲信號頻率之間的關系曲線上最高反射率所對應的頻率和最低反射率所對應的頻率;所述多頻成像探頭所發射的超聲信號頻率包括兩種頻率類型,屬于第一頻率類型的頻率小于fth,屬于第二頻率類型的頻率大于或等于fth; 成像處理模塊,用于分別對各頻率所對應的反射信號進行超聲成像,得到第一頻率類型和第二頻率類型下的超聲成像結果后,進行差分運算,得到所述待成像組織的超聲成像結果。
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