季華實驗室張川東獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉季華實驗室申請的專利一種窄滯回寬度薄膜材料及其制備方法、應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119592913B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411859498.7，技術領域涉及：C23C14/08；該發明授權一種窄滯回寬度薄膜材料及其制備方法、應用是由張川東;郭遠軍;楊振懷;劉宏;胡強設計研發完成，并于2024-12-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種窄滯回寬度薄膜材料及其制備方法、應用在說明書摘要公布了：本申請涉及傳感器技術領域，主要涉及一種窄滯回寬度薄膜材料及其制備方法、應用。本申請通過對二氧化釩薄膜進行摻雜引入帶有磁性的稀土元素釓（Gd）和鈦（Ti），作為雜質離子可有效地取代或破壞釩離子的V4+?V4+共價鍵，進而增加薄膜中的缺陷對二氧化釩薄膜的相變特性進行調控，所提供的薄膜材料還具有窄的滯回寬度，有助于實現零滯回寬度的廣泛應用突破，同時還具備有優異的可逆相變與循環穩定性以及超靈敏溫度響應與快速開關特性，可為傳感器領域的發展提供有力的支持。
本發明授權一種窄滯回寬度薄膜材料及其制備方法、應用在權利要求書中公布了：1.一種窄滯回寬度薄膜材料，其特征在于，包括二氧化釩薄膜；所述二氧化釩薄膜摻雜有釓和鈦； 所述釓在所述窄滯回寬度薄膜材料的摻雜量為1at%-7.5at%，所述鈦在所述窄滯回寬度薄膜材料的摻雜量為1at%-10at%。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人季華實驗室，其通訊地址為：528200 廣東省佛山市南海區桂城街道環島南路28號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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