北京石墨烯研究院;北京大學彭海琳獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京石墨烯研究院;北京大學申請的專利一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120270985B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510747847.4,技術領域涉及:C01B32/194;該發明授權一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法是由彭海琳;王洪芳;鄭黎明;楊立晨;賈開誠;劉忠范設計研發完成,并于2025-06-06向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法,屬于材料領域。本發明方法包括:利用電化學剝離法將石墨烯與預氧化的銅金屬生長襯底進行分離,轉移至高分子復合媒介;然后用溶劑熱貼合法,將高分子膜支撐的石墨烯與電鏡載網進行共形貼合,去除聚合物媒介后得到石墨烯載網。本發明方法工藝簡單,可重復高,兼容性強,可大規模制備生產。本發明方法制備的石墨烯支撐膜完整度高達90%,載網懸空孔內石墨烯具有超平整和良好的潔凈度特點。
本發明授權一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法在權利要求書中公布了:1.一種超平整石墨烯電鏡支撐膜的批量化制備方法,包括如下步驟S1、S2、S3、S4、S5,或步驟S1*、S2*、S3、S4、S5: S1、對石墨烯金屬基底進行預氧化處理得到石墨烯氧化的金屬基底; S2、在所述石墨烯氧化的金屬基底的表面依次涂覆小分子緩沖層和高分子復合媒介層,形成復合媒介層石墨烯氧化的金屬基底的復合結構; S1*、在石墨烯金屬基底的表面依次涂覆小分子緩沖層和高分子復合媒介層,形成復合媒介層石墨烯金屬基底的復合結構; S2*、對所述復合媒介層石墨烯金屬基底進行預氧化處理得到復合媒介層石墨烯氧化的金屬基底的復合結構; S3、在所述復合媒介層表面貼合自支撐層,得到自支撐層復合媒介層石墨烯氧化的金屬基底的復合結構; S4、通過電化學剝離法將氧化的金屬基底與自支撐層復合媒介層石墨烯的復合結構分離; S5、將所述自支撐層復合媒介層石墨烯與電鏡載網貼合,去除所述自支撐層和所述復合媒介層,得到石墨烯電鏡載網復合結構; 所述金屬基底為藍寶石晶圓上制備的銅單晶薄膜; 步驟S1或S2*中,所述預氧化處理的步驟為: 將所述石墨烯金屬基底浸泡于醇水混合液; 所述醇水混合液中,醇為乙醇、異丙醇或乙二醇的一種或多種; 步驟S2或S1*中,所述小分子緩沖層包含薄荷醇、冰片和環十二烷中的一種或多種; 所述高分子復合媒介層包含聚碳酸丙烯酯和聚甲基丙烯酸甲酯的混合物; 所述聚碳酸丙烯酯和所述聚甲基丙烯酸甲酯的混合物中,所述聚碳酸丙烯酯的質量分數為80-99%。
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