陛通半導體設備(蘇州)有限公司睢智峰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉陛通半導體設備(蘇州)有限公司申請的專利濺射鍍膜設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120311156B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510804229.9,技術領域涉及:C23C14/35;該發明授權濺射鍍膜設備是由睢智峰;解文駿;周云;潘學勤;宋維聰設計研發完成,并于2025-06-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本濺射鍍膜設備在說明書摘要公布了:本發明提供一種濺射鍍膜設備,所述濺射鍍膜設備包括濺射腔體、位于濺射腔體上部的濺射組件、位于濺射腔體內的載臺及遮擋組件;所述遮擋組件包括擋板及遮擋環,所述擋板自濺射組件外圍向下延伸到載臺周向外圍,所述擋板內設置有冷卻通道,且所述擋板和遮擋環上均沿徑向間隔設置有2個以上散熱鰭片,各散熱鰭片的高度大于1.5cm且各散熱鰭片的表面均設置有高熱輻射性能的散熱材料層;非鍍膜過程中,遮擋環搭設在擋板上,且擋板和遮擋環的散熱鰭片相互嵌設。本發明可以大大提升擋板和遮擋環之間的熱交換效率,由此可以在較短的時間內快速降溫,有助于減少上一片晶圓與下一片晶圓之間的沉積速率與膜厚均勻性的差值,減少器件性能的差異性。
本發明授權濺射鍍膜設備在權利要求書中公布了:1.一種濺射鍍膜設備,其特征在于,所述濺射鍍膜設備包括濺射腔體、位于濺射腔體上部的濺射組件、位于濺射腔體內的載臺及遮擋組件;所述遮擋組件包括擋板及遮擋環,所述擋板自濺射組件外圍向下延伸到載臺周向外圍,所述擋板內設置有冷卻通道,且所述擋板和遮擋環上均沿徑向間隔設置有2個以上散熱鰭片,各散熱鰭片的高度大于1.5cm且各散熱鰭片的表面均設置有高熱輻射性能的散熱材料層,擋板和遮擋環均具有導電金屬層,兩者的散熱鰭片的散熱材料層為導電類型相反的半導體材料層;非鍍膜過程中,遮擋環搭設在擋板上,且擋板和遮擋環的散熱鰭片相互嵌設;所述濺射鍍膜設備還包括直流電源,直流電源與擋板和遮擋環之間形成電流回路,且直流電源提供不同方向電流以切換冷熱端面。
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