東京毅力科創株式會社四本松康太獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利等離子體處理裝置、處理方法及上部電極構造獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112447484B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010905300.X，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權等離子體處理裝置、處理方法及上部電極構造是由四本松康太;石橋淳治;佐佐木淳一;花岡秀敏設計研發完成，并于2020-09-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本等離子體處理裝置、處理方法及上部電極構造在說明書摘要公布了：一種等離子體處理裝置，其用于對在基板的邊緣區域產生的傾斜形狀的隨時間的變化進行抑制。該等離子體處理裝置包括：腔室；下部電極，用于在所述腔室內放置基板；邊緣環，布置于所述下部電極的周圍；部件，布置于在所述腔室內與所述下部電極相對的上部電極的周圍；氣體供給部，向所述部件與所述下部電極之間的處理空間供給處理氣體；以及高頻供電部，向所述下部電極或所述上部電極施加用于生成所述處理氣體的等離子體的高頻電力，其中，所述部件具有內側部件、以及位于所述內側部件的外側的外側部件，所述外側部件在徑向上相對于所述邊緣環位于外側，所述外側部件的至少一部分能夠根據所述邊緣環的消耗而在上下方向上移動。
本發明授權等離子體處理裝置、處理方法及上部電極構造在權利要求書中公布了：1.一種等離子體處理裝置，包括： 腔室； 下部電極，用于在所述腔室內放置基板； 邊緣環，布置于所述下部電極的周圍； 部件，布置于支承部件的下方，該支承部件用于將在所述腔室內與所述下部電極相對的上部電極支承在腔室主體的上部； 氣體供給部，向所述部件與所述下部電極之間的處理空間供給處理氣體；以及 高頻供電部，向所述下部電極或所述上部電極施加用于生成所述處理氣體的等離子體的高頻電力， 其中，所述部件具有由導電性部件形成的內側部件、以及由導電性部件形成且位于所述內側部件的徑向外側的外側部件， 所述上部電極與所述內側部件之間電絕緣， 所述外側部件與所述內側部件之間電絕緣， 所述外側部件在徑向上相對于所述邊緣環位于外側， 所述外側部件的至少一部分能夠根據所述邊緣環的消耗而在上下方向上移動。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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