西安紫光國芯半導(dǎo)體有限公司李曉駿獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉西安紫光國芯半導(dǎo)體有限公司申請的專利用于3D芯片的芯片單元、芯片組件和3D芯片獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114823603B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202110130017.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L23/498;該發(fā)明授權(quán)用于3D芯片的芯片單元、芯片組件和3D芯片是由李曉駿設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-01-29向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本用于3D芯片的芯片單元、芯片組件和3D芯片在說明書摘要公布了:本申請實(shí)施例提供了一種用于3D芯片的芯片單元、芯片組件和3D芯片,其中,芯片單元包括:襯底層;金屬層,金屬層包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,金屬層的第二表面設(shè)置在襯底層上;金屬層穿孔組件,設(shè)置在金屬層內(nèi),金屬層穿孔組件包括:第一導(dǎo)體件、第二導(dǎo)體件和導(dǎo)體連接孔,第一導(dǎo)體件形成于金屬層的第一表面,第二導(dǎo)體件形成于金屬層的第二表面,導(dǎo)體連接孔形成于金屬層內(nèi),第二導(dǎo)體件通過導(dǎo)體連接孔連接于第一導(dǎo)體件,以使信號能夠通過襯底層傳輸至第一表面;襯底通孔,開設(shè)在襯底層上,連通于第二導(dǎo)體件。該芯片單元降低了刻蝕的工藝難度,降低了占用金屬層的面積,降低了電阻寄生參數(shù)和電容寄生參數(shù),縮短了芯片單元的制備周期,降低了生產(chǎn)成本。
本發(fā)明授權(quán)用于3D芯片的芯片單元、芯片組件和3D芯片在權(quán)利要求書中公布了:1.一種用于3D芯片的芯片單元,其特征在于,包括: 襯底層; 金屬層,所述金屬層包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述金屬層的所述第二表面設(shè)置在所述襯底層上; 金屬層穿孔組件,設(shè)置在所述金屬層內(nèi),所述金屬層穿孔組件包括:第一導(dǎo)體件、第二導(dǎo)體件和導(dǎo)體連接孔,所述第一導(dǎo)體件形成于所述金屬層的第一表面,所述第二導(dǎo)體件形成于所述金屬層的第二表面,所述導(dǎo)體連接孔形成于所述金屬層內(nèi),所述第二導(dǎo)體件通過所述導(dǎo)體連接孔連接于所述第一導(dǎo)體件,以使信號能夠通過所述襯底層傳輸至所述第一表面; 襯底通孔,開設(shè)在所述襯底層上,連通于所述第二導(dǎo)體件; 片內(nèi)導(dǎo)體件,位于所述第一導(dǎo)體件和所述第二導(dǎo)體件之間; 其中,所述導(dǎo)體連接孔為多個(gè),所述第二導(dǎo)體件通過多個(gè)所述導(dǎo)體連接孔中的部分所述導(dǎo)體連接孔連接于所述片內(nèi)導(dǎo)體件,所述片內(nèi)導(dǎo)體件通過多個(gè)所述導(dǎo)體連接孔中的部分所述導(dǎo)體連接孔連接于第一導(dǎo)體件; 所述導(dǎo)體連接孔為柱狀,所述導(dǎo)體連接孔包括通孔和連接柱,所述通孔開設(shè)在所述金屬層,所述連接柱為填充在所述通孔內(nèi)的金屬柱,所述第一導(dǎo)體件和所述片內(nèi)導(dǎo)體件通過所述金屬柱連接,所述第二導(dǎo)體件和所述片內(nèi)導(dǎo)體件通過所述金屬柱連接,相鄰的所述片內(nèi)導(dǎo)體件通過所述金屬柱連接; 襯底導(dǎo)體件,設(shè)置在所述襯底層內(nèi); 所述襯底通孔包括底部通孔和中間連接孔,所述底部通孔開設(shè)在所述襯底的底部,連通于所述襯底導(dǎo)體件,所述中間連接孔位于所述襯底導(dǎo)體件和所述第二導(dǎo)體件之間,所述襯底導(dǎo)體件通過所述中間連接孔連通于所述第二導(dǎo)體件,所述襯底通孔沿襯底高度方向的截面為梯形,所述梯形的短邊位于所述襯底層靠近所述金屬層的一側(cè),所述梯形的長邊位于所述襯底層遠(yuǎn)離所述金屬層的一側(cè),其中,導(dǎo)體介質(zhì)層填充在所述底部通孔內(nèi); 所述片內(nèi)導(dǎo)體件為多個(gè),多個(gè)所述片內(nèi)導(dǎo)體件間隔設(shè)置在所述第一導(dǎo)體件和所述第二導(dǎo)體件之間,相鄰的所述片內(nèi)導(dǎo)體件通過多個(gè)所述導(dǎo)體連接孔中的部分所述導(dǎo)體連接孔連接,所述導(dǎo)體連接孔的數(shù)量與所述導(dǎo)體連接件的數(shù)量的差值為1; 散熱層,所述散熱層覆蓋在所述散熱介質(zhì)層上,所述散熱層的橫截面積大于所述導(dǎo)體介質(zhì)填充層的面積。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人西安紫光國芯半導(dǎo)體有限公司,其通訊地址為:710075 陜西省西安市高新區(qū)丈八街辦高新六路38號A座4樓;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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