浜松光子學株式會社藪下綾介獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浜松光子學株式會社申請的專利X射線產生裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115380352B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180024407.6，技術領域涉及：H01J35/16；該發明授權X射線產生裝置是由藪下綾介設計研發完成，并于2021-02-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本X射線產生裝置在說明書摘要公布了：本發明的X射線產生裝置具備：電子槍，其具有出射電子束的陰極；第1框體，其容納電子槍；靶，其入射有自電子槍出射的電子束；第2框體，其容納靶；及電子通過路徑，其遍及第1框體與第2框體而設置，使電子束自第1框體的第1內部空間朝第2框體的第2內部空間通過。電子通過路徑具有向靶直徑縮小的直徑縮小部。在第1框體，設置有用于將第1框體內的第1內部空間真空排氣的第1排氣流路。在第2框體，設置有用于將第2框體內的第2內部空間真空排氣的第2排氣流路。
本發明授權X射線產生裝置在權利要求書中公布了：1.一種X射線產生裝置，其中， 具備： 電子槍，其具有出射電子束的陰極； 第1框體，其容納所述電子槍； 靶，其入射有自所述電子槍出射的所述電子束； 第2框體，其容納所述靶； 電子通過路徑，其遍及所述第1框體與所述第2框體而設置，使所述電子束自所述第1框體的第1內部空間朝所述第2框體的第2內部空間通過，且所述電子通過路徑具有向所述靶直徑縮小的直徑縮小部； 第1排氣流路，其用于將所述第1框體內的所述第1內部空間真空排氣； 第2排氣流路，其用于將所述第2框體內的所述第2內部空間真空排氣； 磁聚焦透鏡，其以在較所述電子槍靠后段包圍所述電子通過路徑的第1區域的方式配置，使所述電子束聚焦； 偏轉線圈，其以在所述電子槍和所述磁聚焦透鏡之間包圍所述電子通過路徑的第2區域的方式配置，構成為調整所述電子束的行進方向；及 磁四極透鏡，其以在所述磁聚焦透鏡的后段包圍所述電子通過路徑的第3區域的方式配置，使所述電子束的形狀變形， 所述電子通過路徑的所述第1區域的最大直徑大于所述電子通過路徑的所述第2區域的最大直徑和所述電子通過路徑的所述第3區域的最大直徑兩者。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浜松光子學株式會社，其通訊地址為：日本靜岡縣；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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