南京工業大學顧學紅獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南京工業大學申請的專利一種DDR分子篩膜的制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115569534B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211040046.7,技術領域涉及:B01D71/02;該發明授權一種DDR分子篩膜的制備方法是由顧學紅;彭莉;楊菊設計研發完成,并于2022-08-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種DDR分子篩膜的制備方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種DDR分子篩膜的制備方法,將經球磨得到的Sigma?1分子篩晶種配置成晶種懸浮液,將晶種涂覆到支撐體上;將金剛烷胺、乙烯胺、去離子水、硅溶膠混合得到合成液,水熱合成制備DDR分子篩膜;臭氧煅燒得到活化的DDR分子篩膜。與現有技術相比,本發明采用高沸點乙烯胺類化合物作為礦化劑,解決了采用乙二胺作為礦化劑合成時帶來的有毒氣體揮發問題,并且制備的DDR分子篩膜厚度明顯降低。
本發明授權一種DDR分子篩膜的制備方法在權利要求書中公布了:1.一種DDR分子篩膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟: 第1步,負載晶種的支撐體的制備:球磨Sigma-1分子篩晶種溶于水中配置成晶種懸浮液,涂覆到多孔支撐體上; 第2步,DDR分子篩膜的制備:將金剛烷胺、乙烯胺、去離子水、硅溶膠按一定的摩爾比配制合成液,通過二次水熱合成法制備分子篩膜; 第3步:DDR分子膜的活化:采用臭氧氣氛對合成的DDR分子篩膜進行處理,得到活化后的DDR分子篩膜。
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