北京科華微電子材料有限公司;上海彤程電子材料有限公司;彤程新材料集團股份有限公司鄭金紅獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京科華微電子材料有限公司;上海彤程電子材料有限公司;彤程新材料集團股份有限公司申請的專利一種光刻膠組合物及其用途獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115639722B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211361864.7，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權一種光刻膠組合物及其用途是由鄭金紅;王璨;馬潔;孫嘉;李冰;陳昕;溫煜明;董棟;張寧設計研發完成，并于2022-11-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光刻膠組合物及其用途在說明書摘要公布了：本申請提供了一種光刻膠組合物及其用途，其中，光刻膠組合物通過添加含多羥基苯基化合物的添加劑，一方面提高了非曝光區的溶解速率，解決了顯影后光刻膠圖形表面有殘留物的問題，另一方面由于光刻膠組合物的結構上可交聯的羥基數目多，曝光區交聯密度大，使曝光區與非曝光區，溶解速率差距進一步增大，提高了光刻膠的對比度，從而解決了顯影后光刻膠圖形的間隔區出現橋接缺陷的問題。將本申請的光刻膠組合物用作深紫外KrF負型光刻膠時，其具有更高的分辨率和更好的工藝窗口。
本發明授權一種光刻膠組合物及其用途在權利要求書中公布了：1.一種光刻膠組合物，其包括含多羥基苯基化合物的添加劑，所述含多羥基苯基化合物的添加劑選自通式III表示的多羥基多苯基化合物： 通式III中，R12、R13、R14和R15各自獨立地選自氫原子、C1～C4烷基、羥甲基或多羥基苯基； m5和n5表示羥基的個數，m5和n5各自獨立地為1～4的整數； 各個所述多羥基苯基中羥基的個數各自獨立地選自2個～6個； 所述光刻膠組合物還包括以下組分：含對羥基苯乙烯結構單元的聚合物、光致產酸劑、交聯劑、含氮堿性化合物、表面活性劑、溶劑； 所述含對羥基苯乙烯結構單元的聚合物、所述含多羥基苯基化合物的添加劑、所述光致產酸劑、所述交聯劑、所述含氮堿性化合物、所述表面活性劑的質量比為100:1～20:1～10:1～10:0.01～1:0.005～0.5。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京科華微電子材料有限公司;上海彤程電子材料有限公司;彤程新材料集團股份有限公司，其通訊地址為：101312 北京市順義區竺園路4號(天竺綜合保稅區)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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