上海星原馳半導體有限公司邵大立獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰,真高效! 查專利查商標用IPTOP,全免費!專利年費監控用IP管家,真方便!
龍圖騰網獲悉上海星原馳半導體有限公司申請的專利化學氣相沉積爐及其進氣機構和進氣方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116083879B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211562222.3,技術領域涉及:C23C16/455;該發明授權化學氣相沉積爐及其進氣機構和進氣方法是由邵大立;齊彪;馬敬忠設計研發完成,并于2022-12-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本化學氣相沉積爐及其進氣機構和進氣方法在說明書摘要公布了:本申請涉及一種化學氣相沉積爐及其進氣機構和進氣方法。化學氣相沉積爐包括爐體,爐體設有用于容置晶圓的容納腔,進氣機構包括:至少一進氣管,設于爐體上且位于容納腔外;至少一進氣板,設于容納腔內;每一進氣板的第一端伸出爐體外,并與進氣管相連,每一進氣板的第二端朝向容納腔的底部延伸;每一進氣板朝向容納腔內的晶圓的一側設有出氣口組,出氣口組包括分別與進氣管和容納腔相連通的多個出氣口,同一進氣板上的多個出氣口圍繞于容納腔內的晶圓間隔布設。利用該進氣機構可使反應氣體從多個方向朝向容納腔內的晶圓的表面擴散,進而能提高晶圓的表面所沉積的薄膜層的厚度的均勻性。
本發明授權化學氣相沉積爐及其進氣機構和進氣方法在權利要求書中公布了:1.一種用于化學氣相沉積爐的進氣機構,所述化學氣相沉積爐包括爐體(110),所述爐體(110)設有用于容置晶圓(20)的容納腔(111),其特征在于,所述進氣機構包括: 至少一進氣管(210),設于所述爐體(110)上且位于所述容納腔(111)外; 至少一進氣板(220),設于所述容納腔(111)內; 其中,每一所述進氣板(220)具有沿所述爐體(110)的軸線方向相對設置的第一端(221)和第二端(222); 每一所述進氣板(220)的第一端(221)伸出所述爐體(110)外,并與所述進氣管(210)相連,每一所述進氣板(220)的第二端(222)朝向所述容納腔(111)的底部延伸; 每一所述進氣板(220)朝向所述容納腔(111)內的所述晶圓(20)的一側設有出氣口組,所述出氣口組包括分別與所述進氣管(210)和所述容納腔(111)相連通的多個出氣口(223),同一所述進氣板(220)上的多個所述出氣口(223)圍繞于所述容納腔(111)內的所述晶圓(20)間隔布設; 每一所述進氣板(220)朝向所述容納腔(111)內的所述晶圓(20)的一側設有弧形出氣面(224),所述弧形出氣面(224)沿所述爐體(110)的徑向方向向內凹陷; 所述出氣口組設于對應的所述弧形出氣面(224),同一所述出氣口組的多個出氣口(223)沿弧形出氣面(224)的弧長方向間隔設置; 每一所述進氣板(220)背離所述晶圓(20)的一側與所述容納腔(111)的側壁之間具有預設間隔。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人上海星原馳半導體有限公司,其通訊地址為:200135 上海市浦東新區中國(上海)自由貿易試驗區臨港新片區云漢路979號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息,力求客觀、公正,但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解,僅供參考使用,不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。