芝浦機械電子裝置株式會社池戶滿獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉芝浦機械電子裝置株式會社申請的專利供給裝置、成膜裝置及保持構件獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116265599B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211593491.6，技術領域涉及：C23C14/04；該發明授權供給裝置、成膜裝置及保持構件是由池戶滿;松橋亮;久保田翔大;白川義広設計研發完成，并于2022-12-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本供給裝置、成膜裝置及保持構件在說明書摘要公布了：本發明提供一種能夠通過簡易的機構使大量電子零件的一部分為了成膜而統一露出的供給裝置、成膜裝置及保持構件。實施方式的供給裝置向對電子零件進行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給電子零件，其包括：掩模，具有覆蓋電子零件的一部分的掩模孔，以使電子零件貫穿于掩模孔并保持的狀態供給至所述成膜處理部；第一承受臺，保持掩模的其中一面，且貫穿掩模孔的電子零件的一端與其接觸；第二承受臺，保持掩模的另一面，且貫穿掩模孔的電子零件的另一端與其接觸；以及反轉機構，在由第一承受臺與第二承受臺夾持掩模的狀態下使掩模反轉。
本發明授權供給裝置、成膜裝置及保持構件在權利要求書中公布了：1.一種供給裝置，向對電子零件進行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給所述電子零件，且包括： 掩模，具有覆蓋所述電子零件的一部分的掩模孔，以使所述電子零件貫穿于所述掩模孔并保持的狀態供給至所述成膜處理部； 第一承受臺，保持所述掩模的其中一面，且貫穿所述掩模孔的所述電子零件的一端與其接觸； 第二承受臺，保持所述掩模的另一面，且貫穿所述掩模孔的所述電子零件的另一端與其接觸； 反轉機構，在由所述第一承受臺與所述第二承受臺夾持所述掩模的狀態下使所述掩模反轉； 暫置臺，暫置所述第一承受臺或所述第二承受臺；以及 承受臺移動機構，使所述第一承受臺或所述第二承受臺從所述暫置臺移動至進行反轉的所述掩模并重疊，反轉后，使所述第一承受臺及所述第二承受臺中成為上側者移動至所述暫置臺。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人芝浦機械電子裝置株式會社，其通訊地址為：日本神奈川縣橫浜市榮區笠間二丁目5番1號(郵遞區號:247-8610)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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