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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京環(huán)境特性研究所申請的專利一種紅外低發(fā)射率涂層及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117645806B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202311617462.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09D1/00；該發(fā)明授權(quán)一種紅外低發(fā)射率涂層及其制備方法是由李金金;賀軍哲;孫新;翁傳欣;吳韋;盧天設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-11-29向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種紅外低發(fā)射率涂層及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種紅外低發(fā)射率涂層，該涂層的制備原料包括無機磷酸鹽粘合劑、紅外低發(fā)射率填料和表面活性劑；其中，所述紅外低發(fā)射率填料由碳酸鋇、碳酸鍶、氧化鋁和二氧化硅依次經(jīng)燒結(jié)和球磨化處理后制備得到。本方案，首先以碳酸鋇、碳酸鍶、氧化鋁和二氧化硅為原料制備紅外低發(fā)射率填料，并對進行球磨化處理，如此有利于發(fā)揮導(dǎo)電性和晶體振動的協(xié)同作用，從而能夠顯著降低填料在高溫環(huán)境下的紅外發(fā)射率。并將上述制備得到的紅外低發(fā)射率填料與無機磷酸鹽粘合劑和表面活性劑混合，通過刮涂法制備得到紅外低發(fā)射率涂層，從而使得涂層在高溫下具有較好的耐溫性能和較低的紅外發(fā)射率。

本發(fā)明授權(quán)一種紅外低發(fā)射率涂層及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種紅外低發(fā)射率涂層，其特征在于，該涂層的制備原料包括無機磷酸鹽粘合劑、紅外低發(fā)射率填料和表面活性劑；其中，所述紅外低發(fā)射率填料由碳酸鋇、碳酸鍶、氧化鋁和二氧化硅依次經(jīng)燒結(jié)和球磨化處理后制備得到；碳酸鋇、碳酸鍶、氧化鋁和二氧化硅的物質(zhì)的量之比為（0.2~0.3）：（0.7~0.8）：1：2； 所述無機磷酸鹽粘合劑的制備方法如下：將磷酸和氫氧化鋁混合反應(yīng)，得到第一反應(yīng)物；向所述第一反應(yīng)物中加入氧化鋅和氧化鎂，混合后得到所述無機磷酸鹽粘合劑。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京環(huán)境特性研究所，其通訊地址為：100854 北京市海淀區(qū)永定路50號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。