青島方益技術有限公司張哲瑋獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉青島方益技術有限公司申請的專利一種半導體清洗設備獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN223276784U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202421352792.4，技術領域涉及：B08B3/02；該實用新型一種半導體清洗設備是由張哲瑋;朱亞楠設計研發完成，并于2024-06-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種半導體清洗設備在說明書摘要公布了：本申請屬于半導體技術領域，提供一種半導體清洗設備，包括盒體分離部、干洗部和濕洗部，盒體分離部用于將待洗試件的盒蓋和底座分離，干洗部中設置有紫外輻射裝置、第一輸入口和第二輸入口，紫外輻射裝置用于產生紫外光以照射待洗試件，第一輸入口用于通入臭氧以對待洗試件表面的有機雜質進行氧化分解，第二輸入口用于通入冷卻劑以冷卻固化反應后的雜質，濕洗部用于提供清洗液以對反應且冷卻固化的雜質進行清洗；本申請的半導體清洗設備有效地提高了清洗效率和清洗效果，降低了由于待洗試件潔凈度不足影響半導體加工制造過程的風險。
本實用新型一種半導體清洗設備在權利要求書中公布了：1.一種半導體清洗設備，用于清洗待洗試件，所述待洗試件包括底座以及蓋合所述底座的盒蓋，其特征在于，包括： 盒體分離部，用于將所述待洗試件的盒蓋和底座分離； 干洗部，所述干洗部內間隔設置有紫外輻射裝置、第一輸入口、第二輸入口，所述第一輸入口用于通入臭氧，所述紫外輻射裝置用于產生紫外光以照射所述待洗試件，所述第二輸入口用于通入冷卻劑，所述干洗部包括第二閥門、第二傳輸管和第三閥門，所述第二傳輸管用于傳輸所述冷卻劑，所述第二閥門和所述第三閥門均連接至所述第二傳輸管，所述第三閥門位于所述第二閥門與所述第二輸入口之間； 濕洗部，用于提供清洗液以對所述待洗試件進行清洗。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人青島方益技術有限公司，其通訊地址為：266426 山東省青島市自由貿易試驗區青島片區太白山路172號中德生態園雙創中心6671室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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