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龍圖騰網獲悉中國人民解放軍國防科技大學申請的專利一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118758176B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410829346.6，技術領域涉及：G01B11/00；該發明授權一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統是由朱家健;李樂;萬明罡;孫明波;田軼夫設計研發完成，并于2024-06-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統在說明書摘要公布了：本發明提出一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統，其流場測試區域位于投影透鏡和反射屏之間；所述相機和光源布置在流場測試區域的同一側，反射屏位于在流場測試區域的另一側，聚焦紋影系統的成像視野更大。本發明利用數字微鏡器件的可編程能力，具有實時在線調節紋影敏感度的功能，具體地可直接通過控制器精確控制“開”和“關”兩種狀態微反射鏡的排布形式，實現紋影敏感度的在線實時調節，紋影敏感度的調節更加方便，調節范圍更寬。本發明可以極大降低在實際場景中使用聚焦紋影技術的難度。

本發明授權一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統在權利要求書中公布了：1.一種具有可編程格柵的投射式聚焦紋影系統，其特征在于，包括集成模塊和反射屏，流場測試區域位于集成模塊和反射屏之間； 所述集成模塊包括光源、聚光鏡頭、分光棱鏡、中繼鏡頭、第一光闌、第一棱鏡、數字微鏡器件、第二棱鏡、第二光闌、投影透鏡、反射屏、聚焦鏡頭以及相機，流場測試區域位于投影透鏡和反射屏之間；所述相機和光源布置在流場測試區域的同一側，反射屏位于在流場測試區域的另一側； 所述光源用于出射紋影背景光，紋影背景光從光源出射后經過聚光鏡頭匯聚后，依次穿過分光棱鏡、中繼鏡頭、第一光闌后經第一棱鏡全反射到數字微鏡器件表面，通過對數字微鏡器件進行編程控制，使均勻的紋影背景光經數字微鏡器件表面反射后形成一系列的條帶光源，數字微鏡器件表面反射出的條帶光源穿過第一棱鏡、第二棱鏡、第二光闌后被投影透鏡投射出去，穿過流場測試區域，達到反射屏表面，其中數字微鏡器件表面與反射屏表面關于投影透鏡共軛；來自反射屏表面的反射回光經投影透鏡、第二光闌、第二棱鏡、第一棱鏡返回后成像在數字微鏡器件表面，數字微鏡器件表面反射出的反射回光經第一棱鏡、第一光闌、中繼鏡頭、分光棱鏡、聚焦鏡頭后由相機采集拍攝。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國人民解放軍國防科技大學，其通訊地址為：410073 湖南省長沙市開福區德雅路109號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。