泉州裝備制造研究所李宇聰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉泉州裝備制造研究所申請的專利一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN223284149U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202422287768.3，技術領域涉及：G01N21/95；該實用新型一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統是由李宇聰;龍晉桓;韓軍;吳飛斌;黃惠玲;陳杰;陳宇;鄢震廷設計研發完成，并于2024-09-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統在說明書摘要公布了：本實用新型適用于光學檢測領域，提供了一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統，所述第一激光器的激光依次經過所述分光鏡、所述偏振片、所述第一凸透鏡、所述光闌模塊和所述第二凸透鏡，傾斜射入待測半導體晶圓表面；所述第二激光器的激光依次經過所述分光鏡、所述偏振片、所述第一凸透鏡、所述光闌模塊和所述第二凸透鏡，傾斜射入待測半導體晶圓表面。現有的光學檢測存在探測視場小、衍射分辨率低、難以定位的不足，而本實用新型通過結合光致發光檢測和角分辨散射檢測兩種檢測技術的特征，能夠簡單快速地獲取兩種檢測的結果，完成對半導體晶圓樣品表面及亞表面的缺陷檢測和表面粗糙度的質量評價檢測。
本實用新型一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統在權利要求書中公布了：1.一種雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統，其特征在于，所述雙光源斜入射的半導體晶圓表面質量檢測系統包括第一激光器、第一分光鏡、第二激光器、偏振片、第一凸透鏡、光闌模塊和第二凸透鏡； 所述第一激光器的激光依次經過所述第一分光鏡、所述偏振片、所述第一凸透鏡、所述光闌模塊和所述第二凸透鏡，傾斜射入待測半導體晶圓表面； 所述第二激光器的激光依次經過所述第一分光鏡、所述偏振片、所述第一凸透鏡、所述光闌模塊和所述第二凸透鏡，傾斜射入待測半導體晶圓表面。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人泉州裝備制造研究所，其通訊地址為：362122 福建省泉州市臺商投資區洛陽鎮上浦村吉貝511號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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