龍門實驗室王新昌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉龍門實驗室申請的專利一種單晶硅樣品腐蝕系統及其腐蝕工藝獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120210963B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510694508.4,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權一種單晶硅樣品腐蝕系統及其腐蝕工藝是由王新昌;崔彩霞;賈倩琳設計研發完成,并于2025-05-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種單晶硅樣品腐蝕系統及其腐蝕工藝在說明書摘要公布了:本發明涉及單晶硅腐蝕處理技術領域,特別是涉及一種單晶硅樣品腐蝕系統及其腐蝕工藝,腐蝕系統包括腐蝕槽、載料盒和蓋板,腐蝕槽內盛載有腐蝕液,腐蝕槽分為內槽和外槽。本發明設置了內槽、外槽和載料盒,在腐蝕作業時,使得外槽內的腐蝕液定向流入到內槽內,并使得內槽內的腐蝕液自下向上流動,使得與單晶硅樣品反應后的腐蝕液連同反應產物自下向上,保證單晶硅樣品周圍的腐蝕液始終是未與單晶硅樣品發生反應的腐蝕液,從而保證單晶硅樣品周圍腐蝕液的濃度盡可能地不變,進而保證腐蝕液的腐蝕速度能夠被精準地預測,這樣通過控制單晶硅樣品在腐蝕液內的浸入時間,便能夠精確控制單晶硅樣品表面的腐蝕深度和表面形貌。
本發明授權一種單晶硅樣品腐蝕系統及其腐蝕工藝在權利要求書中公布了:1.一種單晶硅樣品腐蝕系統,其特征在于,包括: 腐蝕槽,腐蝕槽內盛載有腐蝕液,腐蝕槽分為內槽和外槽,內槽和外槽的頂部均開口,內槽的上部開設有排液口,內槽的下部開設有連通孔; 載料盒,載料盒的側下部周向均勻開設有貫通孔,載料盒能夠沿豎直方向移動,載料盒用于放置單晶硅樣品,載料盒位于內槽內部且載料盒的外側壁與內槽滑動密封; 蓋板,蓋板能夠沿豎直方向移動,且蓋板位于外槽內部并與外槽滑動密封; 腐蝕作業時,載料盒豎直向下移動,使得內槽內部的腐蝕液通過連通孔定向流動到外槽內部,當載料盒豎直移動至貫通孔與連通孔位于相同高度位置時,載料盒停止向下移動,此時蓋板豎直向下移動,使得外槽內部的腐蝕液通過連通孔定向流入到載料盒內,同時通過排液口抽吸使得流入到載料盒內部的腐蝕液自下向上定向流動。
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