中國科學院上海高等研究院陳雨獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院上海高等研究院申請的專利X射線吸收譜的能量校準方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120369751B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510856665.0,技術領域涉及:G01N23/085;該發明授權X射線吸收譜的能量校準方法是由陳雨;李炯;張碩;甘濤;高倩設計研發完成,并于2025-06-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本X射線吸收譜的能量校準方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種X射線吸收譜的能量校準方法,包括:提供一種X射線吸收譜儀,包括單色器、第一電離室和第二電離室;對待測樣品進行X射線吸收譜實驗,以得到待測樣品的吸收系數隨單色器角度的變化曲線及其對應的第一電離室測得的X射線的強度隨單色器角度的變化曲線;確定單色器晶體Glitch點處的單色器角度;確定待測樣品的單色器晶體Glitch點處的單色器角度對應的單色光的能量;確定單色器Glitch點處的布拉格角度;待測樣品的單色器角度與布拉格角度之間的映射關系;確定待測樣品的單色器角度與單色光的能量之間的對應關系;將待測樣品的吸收系數隨單色器角度的變化曲線轉換為待測樣品的吸收系數隨單色光的能量的變化曲線。
本發明授權X射線吸收譜的能量校準方法在權利要求書中公布了:1.一種X射線吸收譜的能量校準方法,其特征在于,包括以下步驟: S100:提供一種X射線吸收譜儀,包括沿X射線傳輸方向依次設置的單色器、第一電離室和第二電離室; S200:將待測樣品放置在所述第一電離室和所述第二電離室之間,并對所述待測樣品進行X射線吸收譜實驗,以得到所述待測樣品的吸收系數隨單色器角度的變化曲線以及所述待測樣品對應的第一電離室測得的X射線的強度隨單色器角度的變化曲線; S300:根據所述待測樣品對應的第一電離室測得的X射線的強度隨單色器角度的變化曲線確定單色器晶體Glitch點處的單色器角度; S400:基于預先獲取的單色器晶體Glitch點的能量數據庫確定所述待測樣品的單色器晶體Glitch點處的單色器角度對應的單色光的能量; S500:基于所述待測樣品的單色器晶體Glitch點處的單色器角度對應的單色光的能量和布拉格公式確定單色器Glitch點處的布拉格角度; S600:基于單色器晶體Glitch點處的單色器角度與布拉格角度確定所述待測樣品的單色器角度與布拉格角度之間的映射關系,作為第一映射關系; S700:基于布拉格公式和所述第一映射關系,確定所述待測樣品的單色器角度與單色光的能量之間的對應關系; S800:基于所述待測樣品的單色器角度與單色光的能量之間的對應關系,將所述待測樣品的吸收系數隨單色器角度的變化曲線轉換為所述待測樣品的吸收系數隨單色光的能量的變化曲線。
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