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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京懷柔實(shí)驗(yàn)室申請(qǐng)的專利MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120358784B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510859705.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D62/17；該發(fā)明授權(quán)MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)是由金銳;李翠;和峰;劉江;李哲洋;崔翔設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)，元胞結(jié)構(gòu)的元胞區(qū)域包括：第一JFET區(qū)和第二JFET區(qū)，第一JFET區(qū)至少位于第二JFET區(qū)的兩側(cè)；阱區(qū)，位于第一JFET區(qū)和第二JFET區(qū)之間；源區(qū)，位于阱區(qū)中且環(huán)繞第二JFET區(qū)，源區(qū)和第一JFET區(qū)之間的阱區(qū)為第一部分阱區(qū)，源區(qū)與第二JFET區(qū)之間的阱區(qū)為第二部分阱區(qū)；阱接觸區(qū)，位于部分第二部分阱區(qū)中，使剩余的第二部分阱區(qū)中具有分別與源區(qū)和第二JFET區(qū)鄰接的溝道區(qū)；第二柵極結(jié)構(gòu)，覆蓋部分溝道區(qū)以及與部分溝道區(qū)分別鄰接的部分源區(qū)和部分第二JFET區(qū)。本申請(qǐng)解決了現(xiàn)有MOSFET的體二極管作為續(xù)流通路時(shí)反向續(xù)流開啟電壓大、反向恢復(fù)損耗高的問題。

本發(fā)明授權(quán)MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種MOSFET器件的元胞結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述元胞結(jié)構(gòu)包括襯底以及位于所述襯底一側(cè)的外延層和元胞區(qū)域，所述元胞區(qū)域位于所述外延層中，所述元胞區(qū)域包括： 第一JFET區(qū)和第二JFET區(qū)，所述第一JFET區(qū)至少位于所述第二JFET區(qū)的兩側(cè)； 阱區(qū)，位于所述第一JFET區(qū)和所述第二JFET區(qū)之間，所述阱區(qū)與所述外延層的導(dǎo)電類型相反； 源區(qū)，位于所述阱區(qū)中且環(huán)繞所述第二JFET區(qū)，所述源區(qū)和所述第一JFET區(qū)之間的所述阱區(qū)為第一部分阱區(qū)，所述源區(qū)與所述第二JFET區(qū)之間的所述阱區(qū)為第二部分阱區(qū)； 阱接觸區(qū)，位于部分所述第二部分阱區(qū)中，使剩余的所述第二部分阱區(qū)中具有分別與所述源區(qū)和所述第二JFET區(qū)鄰接的溝道區(qū)，所述阱接觸區(qū)和所述阱區(qū)的摻雜類型相同，所述阱接觸區(qū)的摻雜濃度高于所述阱區(qū)的摻雜濃度； 柵極結(jié)構(gòu)，包括鄰接的第一柵極結(jié)構(gòu)和第二柵極結(jié)構(gòu)，所述第一柵極結(jié)構(gòu)覆蓋所述第一部分阱區(qū)以及與所述第一部分阱區(qū)分別鄰接的部分所述源區(qū)和至少部分所述第一JFET區(qū)，所述第二柵極結(jié)構(gòu)覆蓋部分所述溝道區(qū)以及與部分所述溝道區(qū)分別鄰接的部分所述源區(qū)和部分所述第二JFET區(qū)。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人北京懷柔實(shí)驗(yàn)室，其通訊地址為：101400 北京市懷柔區(qū)楊雁東一路8號(hào)院5號(hào)樓319室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。