中國科學院長春光學精密機械與物理研究所胡海翔獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利干涉檢測裝置對焦方法、系統及其傳遞函數獲取方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120445594B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510930810.5,技術領域涉及:G01M11/02;該發明授權干涉檢測裝置對焦方法、系統及其傳遞函數獲取方法是由胡海翔;張學軍;田明森;李明茁設計研發完成,并于2025-07-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本干涉檢測裝置對焦方法、系統及其傳遞函數獲取方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種干涉檢測裝置對焦方法、系統及其傳遞函數獲取方法,涉及光學系統領域,用于解決現有人工判斷對焦會由于操作者經驗等因素的影響容易產生誤差的問題。本發明通過將測試板置于干涉檢測裝置的出光側的多個位置并測得實測面形,以及利用高斯模型構建測試板在各個位置的仿真退化波前并獲得仿真面形,通過建立描述測試板在所述至少兩個位置的仿真面形和實測面形的差量的目標函數并求解目標函數,獲得使目標函數取值最小的測試板最佳位置,以將測試板移動至最佳位置,實現對焦。那么,與現有技術相比,本發明通過對測試板測得實測面形和建立仿真面形并通過相應計算實現干涉檢測裝置對焦,能夠提高對焦準確性,減小對焦誤差。
本發明授權干涉檢測裝置對焦方法、系統及其傳遞函數獲取方法在權利要求書中公布了:1.一種干涉檢測裝置對焦方法,其特征在于,包括: 將測試板設置于干涉檢測裝置的出光側,使所述測試板分別位于沿所述測試板的光場傳播方向的至少兩個位置,在所述測試板位于所述至少兩個位置的任一位置時,通過所述干涉檢測裝置檢測獲得所述測試板的實測面形,其中,所述至少兩個位置包括初始位置,對于所述至少兩個位置的任一位置,以沿所述測試板的光場傳播方向所述任一位置相對于所述初始位置的距離,表示所述任一位置在沿所述測試板的光場傳播方向的位置; 構建所述測試板的理想波前,獲得所述測試板在所述至少兩個位置的任一位置時的仿真退化波前,并根據所述任一位置的所述仿真退化波前的相位信息獲得所述測試板在所述任一位置時的仿真面形,所述任一位置的所述仿真退化波前以所述理想波前和所述任一位置的高斯模型卷積表示,所述任一位置的高斯模型描述將所述測試板的光場分解為多個微元,所述微元傳播至所述任一位置時的復振幅; 建立目標函數并求解所述目標函數,獲得使所述目標函數取值最小的所述測試板在沿所述測試板的光場傳播方向的最佳位置,以將所述測試板移動至所述最佳位置,所述目標函數描述所述測試板在所述至少兩個位置的所述仿真面形和所述實測面形的差量。
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