華芯程(杭州)科技有限公司熊萬能獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華芯程(杭州)科技有限公司申請的專利一種刻蝕偏差校正方法、裝置、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120428510B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510948415.X,技術領域涉及:G03F1/80;該發明授權一種刻蝕偏差校正方法、裝置、設備及存儲介質是由熊萬能;楊曉方;張雄設計研發完成,并于2025-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種刻蝕偏差校正方法、裝置、設備及存儲介質在說明書摘要公布了:本發明涉及集成電路制造領域,特別是涉及一種刻蝕偏差校正方法、裝置、設備及存儲介質,通過接收待處理版圖及刻蝕工藝最小尺寸;將所述刻蝕工藝最小尺寸增加,得到凸角最小尺寸;將所述刻蝕工藝最小尺寸增加,得到凹角最小尺寸;對所述待處理版圖中的圖形的邊緣進行分段處理,得到分段版圖;所述分段版圖中的圖形為多個待調整邊緣段圍成的圖形;其中,組成所述分段版圖中的圖形的凹角的待調整邊緣段的長度不小于所述凹角最小尺寸,組成所述分段版圖中的圖形的凸角的待調整邊緣段的長度不小于所述凸角最小尺寸;對所述分段版圖進行刻蝕偏差補償,得到補償修正版圖。本發明中,避免角位的待調整邊緣段的尺寸小于刻蝕工藝最小尺寸,提補償的準確率。
本發明授權一種刻蝕偏差校正方法、裝置、設備及存儲介質在權利要求書中公布了:1.一種刻蝕偏差校正方法,其特征在于,包括: 接收待處理版圖及刻蝕工藝最小尺寸; 將所述刻蝕工藝最小尺寸增加,得到凸角最小尺寸;將所述刻蝕工藝最小尺寸增加,得到凹角最小尺寸; 對所述待處理版圖中的圖形的邊緣進行分段處理,得到分段版圖;所述分段版圖中的圖形為多個待調整邊緣段圍成的圖形;其中,組成所述分段版圖中的圖形的凹角的待調整邊緣段的長度不小于所述凹角最小尺寸,組成所述分段版圖中的圖形的凸角的待調整邊緣段的長度不小于所述凸角最小尺寸; 對所述分段版圖進行刻蝕偏差補償,得到補償修正版圖。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人華芯程(杭州)科技有限公司,其通訊地址為:311113 浙江省杭州市余杭區良渚街道網周路99號1幢22層2208室;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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