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龍圖騰網(wǎng)獲悉中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115763372B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111028400.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D84/01；該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法是由鄭二虎設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-09-02向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法在說明書摘要公布了：一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，包括：提供待刻蝕層，待刻蝕層包括第一區(qū)和第二區(qū)；在第一區(qū)上形成沿平行于襯底表面的第一方向分立的若干第一核心層；在第二區(qū)上形成沿平行于襯底表面的第二方向分立的若干第二核心層相鄰第二核心層的第二尺寸大于相鄰第一核心層的第一尺寸；在第一核心層和第二核心層側(cè)壁表面、頂部表面形成側(cè)墻材料層；采用第一刻蝕工藝刻蝕側(cè)墻材料層，在第一核心層側(cè)壁形成第一側(cè)墻，第一側(cè)墻在第一方向上具有第一尺寸；采用第二刻蝕工藝刻蝕側(cè)墻材料層，在第二核心層側(cè)壁形成第二側(cè)墻，第二側(cè)墻在第一方向上具有第二尺寸，第二尺寸大于第一尺寸；以第一側(cè)墻和第二側(cè)墻刻蝕待刻蝕層。所述方法形成的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形貌較好。

本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，包括： 提供待刻蝕層，所述待刻蝕層包括第一區(qū)和第二區(qū)； 在第一區(qū)上形成若干分立的第一核心層，若干所述第一核心層沿第一方向排列，所述第一方向平行于襯底表面； 在第二區(qū)上形成若干分立的第二核心層，若干所述第二核心層沿第一方向排列，相鄰第二核心層的第二尺寸大于相鄰第一核心層的第一尺寸，所述第一尺寸包括第一核心層沿第一方向上的尺寸以及相鄰第一核心層之間的間距，所述第二尺寸包括第二核心層沿第一方向上的尺寸以及相鄰第二核心層之間的間距； 在第一核心層側(cè)壁表面和頂部表面、以及第二核心層側(cè)壁表面和頂部表面形成側(cè)墻材料層，所述第二核心層側(cè)壁表面和頂部表面的側(cè)墻材料層包括第一部分和位于第一部分上的第二部分，所述第一部分位于所述第二核心層側(cè)壁，所述第二部分的底部平面與第二核心層的頂部平面齊平，所述第二部分包括第一區(qū)和位于第一區(qū)兩側(cè)的第二區(qū)，所述第一區(qū)位于第二核心層表面，所述第二區(qū)與第一部分相接，且所述第二區(qū)在第一方向上的尺寸沿第二方向逐漸增大，所述第二方向垂直于待刻蝕層表面； 采用第一刻蝕工藝刻蝕所述第一核心層側(cè)壁表面和頂部表面的側(cè)墻材料層，在第一核心層側(cè)壁形成第一側(cè)墻，所述第一側(cè)墻在第一方向上具有第一尺寸； 采用第二刻蝕工藝刻蝕所述第二核心層側(cè)壁表面和頂部表面的側(cè)墻材料層，在第二核心層側(cè)壁形成第二側(cè)墻，所述第二側(cè)墻在第一方向上具有第二尺寸，所述第二尺寸大于所述第一尺寸； 以所述第一側(cè)墻和第二側(cè)墻刻蝕所述待刻蝕層。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。