江蘇漢拓光學材料有限公司傅志偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江蘇漢拓光學材料有限公司申請的專利一種化學放大光刻膠及其制備與使用方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114114834B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111486540.1，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權一種化學放大光刻膠及其制備與使用方法是由傅志偉;潘新剛;吳信;余文卿設計研發完成，并于2021-12-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種化學放大光刻膠及其制備與使用方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種化學放大光刻膠及其制備與使用方法，所述光刻膠包括如下質量百分比的各組分：聚合物樹脂，光刻膠的5～10％；光酸，聚合物樹脂的4～10％；猝滅劑，光酸的10～40％；UV吸收劑，聚合物樹脂的0.5～5％；流平劑，光刻膠的0.1～0.5％；溶劑，補足百分百；所述聚合物樹脂包括第一聚合物樹脂和或第二聚合物樹脂；所述光酸選自離子型光酸或非離子型光酸中的至少一種。制備方法包括以下步驟：按化學放大光刻膠的各組分混合。使用方法包括以下步驟：將化學放大光刻膠涂布在硅片上，依次經過前烘、曝光、后烘和顯影。本發明光刻膠能有效降低駐波效應，增加光刻膠圖形側壁的垂直性，提高光刻膠成像的分辨率。
本發明授權一種化學放大光刻膠及其制備與使用方法在權利要求書中公布了：1.一種化學放大光刻膠，其特征在于，所述光刻膠包括如下質量百分比的各組分： 所述聚合物樹脂包括第一聚合物樹脂和第二聚合物樹脂，所述光酸選自離子型光酸和非離子型光酸；或所述聚合物樹脂包括第一聚合物樹脂和第二聚合物樹脂，所述光酸選自離子型光酸或非離子型光酸；或所述聚合物樹脂包括第一聚合物樹脂或第二聚合物樹脂，所述光酸選自離子型光酸和非離子型光酸； 所述第一聚合物樹脂為羥基苯乙烯化合物、苯乙烯化合物和丙烯酸叔丁酯化合物的共聚物；所述第二聚合物樹脂為羥基苯乙烯化合物和縮醛保護的羥基苯乙烯化合物的共聚物。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人江蘇漢拓光學材料有限公司，其通訊地址為：221132 江蘇省徐州市徐州經濟技術開發區軟件園E1綜合樓12A13；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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