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龍圖騰網(wǎng)獲悉紐富來科技股份有限公司申請的專利多帶電粒子射束描繪裝置及其調(diào)整方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115113490B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210259329.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)多帶電粒子射束描繪裝置及其調(diào)整方法是由七尾翼;松本裕史設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-03-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本多帶電粒子射束描繪裝置及其調(diào)整方法在說明書摘要公布了：提供能夠簡便且高精度地進行多射束的像散校正的多帶電粒子射束描繪裝置及其調(diào)整方法。多帶電粒子射束描繪裝置具備：物鏡，調(diào)整多射束的焦點位置；像散校正元件，校正多射束的像散；檢查孔徑，使多射束中的一根通過；偏轉(zhuǎn)器，使多射束偏轉(zhuǎn)，在檢查孔徑上掃描多射束；電流檢測器，檢測通過檢查孔徑后的多射束的各射束的射束電流；射束圖像制作部，基于射束電流制作射束圖像；特征量計算部，在第一方向上將射束圖像的亮度相加而生成第一波形，根據(jù)第一波形計算第一特征量，在與第一方向不同的第二方向上將射束圖像的亮度相加而生成第二波形，根據(jù)第二波形計算第二特征量；及參數(shù)計算部，基于第一及第二特征量，計算對像散校正元件設(shè)定的激勵參數(shù)。

本發(fā)明授權(quán)多帶電粒子射束描繪裝置及其調(diào)整方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種多帶電粒子射束描繪裝置，其特征在于，具備：物鏡，調(diào)整多射束的焦點位置；像散校正元件，校正所述多射束的像散；載物臺，供作為描繪對象的基板載置；檢查孔徑，設(shè)置于所述載物臺，使所述多射束中的1根射束通過；電流檢測器，檢測通過了所述檢查孔徑后的所述多射束的各射束的射束電流；偏轉(zhuǎn)器，使所述多射束偏轉(zhuǎn)，在所述檢查孔徑上掃描所述多射束；射束圖像制作部，基于檢測出的所述射束電流來制作射束圖像；特征量計算部，在第一方向上將所述射束圖像的亮度相加而生成第一波形，并根據(jù)所述第一波形計算第一特征量，在與所述第一方向不同的第二方向上將所述射束圖像的亮度相加而生成第二波形，并根據(jù)所述第二波形計算第二特征量；以及參數(shù)計算部，基于所述第一特征量及所述第二特征量，計算對所述像散校正元件設(shè)定的激勵參數(shù)，所述第一方向與所述第二方向正交，所述第一特征量及所述第二特征量是所述第一波形及所述第二波形中的亮度的方差、所述第一波形及所述第二波形中的亮度的最大值與最小值的差量、所述第一波形及所述第二波形中的微分值的最大值與最小值的差量、所述第一波形及所述第二波形中的每個射束間距周期的亮度的最大值與最小值的差量的合計中的某一個，所述參數(shù)計算部以所述第一特征量取極值的透鏡值與所述第二特征量取極值的透鏡值一致的方式計算所述激勵參數(shù)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人紐富來科技股份有限公司，其通訊地址為：日本神奈川縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。