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龍圖騰網獲悉無錫邑文電子科技有限公司申請的專利光刻膠去除方法和去膠機獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114660909B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210305069.X，技術領域涉及：G03F7/42；該發明授權光刻膠去除方法和去膠機是由林政勛;張云飛;華義永設計研發完成，并于2022-03-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本光刻膠去除方法和去膠機在說明書摘要公布了：本實施例提供了一種光刻膠去除方法和去膠機，涉及半導體技術領域。去膠機包括去膠機本體、進氣管道和等離子體形成裝置。等離子體形成裝置設置于去膠機本體的反應腔，等離子體形成裝置具有與反應腔連通的等離子體形成腔室，等離子體形成裝置用于形成等離子體。進氣管道與等離子體形成腔室連通，以向等離子形成腔室輸送氣體。方法包括將涂好膠的硅片送入反應腔；控制等離子體形成裝置以第一預設射頻功率運行，進氣管道向等離子體形成腔室內通入第一預設量的氧氣和第二預設量的氮氣；使等離子體形成裝置以第二預設射頻功率運行，進氣管道向等離子體形成腔室內通入第三預設量的氧氣以使等離子體形成裝置形成等離子體，以對涂好膠的硅片的膠進行去除。

本發明授權光刻膠去除方法和去膠機在權利要求書中公布了：1.一種光刻膠去除方法，其特征在于，所述光刻膠去除方法應用于去膠機； 所述去膠機包括去膠機本體、進氣管道和等離子體形成裝置； 所述去膠機本體具有反應腔； 所述等離子體形成裝置設置于所述去膠機本體，所述等離子體形成裝置具有等離子體形成腔室，所述等離子體形成腔室與所述反應腔連通，所述等離子體形成裝置用于形成等離子體； 所述進氣管道與所述等離子體形成腔室連通，所述進氣管道用于向所述等離子形成腔室輸送氣體； 所述光刻膠去除方法包括： 將涂好膠的硅片送入反應腔； 控制所述等離子體形成裝置以第一預設射頻功率運行，并控制進氣管道向所述等離子體形成腔室內通入第一預設量的氧氣和第二預設量的氮氣； 控制所述等離子體形成裝置以第二預設射頻功率運行，并控制進氣管道向所述等離子體形成腔室內通入第三預設量的氧氣以使等離子體形成裝置形成等離子體，以對所述涂好膠的硅片的膠進行去除； 其中，所述第二預設射頻功率大于所述第一預設射頻功率，所述第三預設量大于所述第一預設量，所述第二預設量的取值范圍為5%-10%。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人無錫邑文電子科技有限公司，其通訊地址為：214028 江蘇省無錫市新吳區觀山路1號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。