買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉上海師范大學(xué)申請的專利一種圖案化吸波薄膜材料及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115241658B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210713416.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01Q17/00；該發(fā)明授權(quán)一種圖案化吸波薄膜材料及其制備方法是由張毅;施超凡;王孟遠;劉德君;劉鋒設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-06-22向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種圖案化吸波薄膜材料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種圖案化吸波薄膜材料及其制備方法，該吸波薄膜材料的表面設(shè)有若干呈橫縱排列的凸起，橫向一排的任意兩個相鄰的凸起的間隔相等，縱向一列的任意兩個相鄰的凸起的間隔相等。該吸波薄膜材料采用以下方法制備得到：取薄膜原材料放置于激光打標機平臺上，調(diào)整激光線，使激光線在薄膜原材料表面橫縱交叉得到網(wǎng)格狀圖案，然后對薄膜原材料進行激光燒蝕，即得到目的產(chǎn)物。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明圖案化吸波薄膜材料具有較好的微波屏蔽效果，同時沒有使用多層材料的復(fù)合結(jié)構(gòu)，不會增加薄膜材料的厚度和質(zhì)量，本發(fā)明吸波薄膜材料具有輕質(zhì)、厚度薄的特點。

本發(fā)明授權(quán)一種圖案化吸波薄膜材料及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種圖案化吸波薄膜材料，其特征在于，該吸波薄膜材料的表面設(shè)有若干呈橫縱排列的凸起，橫向一排的任意兩個相鄰的凸起的間隔相等，縱向一列的任意兩個相鄰的凸起的間隔相等； 所述凸起的高度相等； 所述凸起設(shè)置在吸波薄膜材料的同一表面； 橫向一排的任意兩個相鄰的凸起的間隔與縱向一列的任意兩個相鄰的凸起的間隔相等； 所述凸起的高度為吸波薄膜材料厚度的30%或45%； 所述吸波薄膜材料為MXene薄膜或摻雜銀納米線的MXene薄膜； 所述吸波薄膜材料通過以下方法制備得到： 通過激光燒蝕在薄膜材料單面刻畫出橫縱間隔相同的網(wǎng)格狀痕跡，相鄰痕跡將沒有被激光燒蝕的材料圍成所述凸起； 入射波射向所述吸波薄膜材料，形成透射波和反射波，由于所述凸起的存在，微波在吸波薄膜材料內(nèi)部的反射路徑增加，形成更多的薄膜內(nèi)部反射波，增加了電磁波在吸波薄膜材料內(nèi)部的反射損耗。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人上海師范大學(xué)，其通訊地址為：200234 上海市徐匯區(qū)桂林路100號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。