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龍圖騰網獲悉西安立芯光電科技有限公司申請的專利一種用于薄膜沉積治具的清潔方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117046785B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311021410.X，技術領域涉及：B08B3/02；該發明授權一種用于薄膜沉積治具的清潔方法是由任占強;趙小亮;崔彬;劉乾;李青民;李喜榮;劉雙濤設計研發完成，并于2023-08-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用于薄膜沉積治具的清潔方法在說明書摘要公布了：本發明屬于真空沉積設備維修技術領域，涉及一種用于薄膜沉積治具的清潔方法，使用用于薄膜沉積治具的清潔裝置，所述清潔裝置包括真空腔體、清潔臺、機械泵、分子泵、真空閥、清潔氣貯罐、干燥氣貯罐，真空腔體內設置清潔臺，清潔臺用于放置待清潔的薄膜沉積治具。包括放置待清潔的薄膜沉積治具、真空腔體抽真空、薄膜沉積治具清潔的步驟。本發明利用薄膜沉積治具與附著的薄膜之間存在應力的現象，當真空腔體達到一定的真空度后，通入清潔氣體，達到附著的薄膜開裂條件，附著的薄膜脫落，達到薄膜沉積治具清潔的效果，避免了薄膜沉積治具的損傷及尺寸變化。

本發明授權一種用于薄膜沉積治具的清潔方法在權利要求書中公布了：1.一種用于薄膜沉積治具的清潔方法，使用用于薄膜沉積治具的清潔裝置；所述清潔裝置包括真空腔體1、清潔臺2、機械泵3、分子泵4、真空閥5、清潔氣貯罐7、干燥氣貯罐8； 所述真空腔體1內設置清潔臺2，所述清潔臺2用于放置待清潔的薄膜沉積治具； 所述分子泵4、所述清潔氣貯罐7、所述干燥氣貯罐8分別與所述真空腔體1連通，所述機械泵3分別通過所述真空閥5與所述分子泵4、所述真空腔體1連通； 其特征在于，包括如下步驟： 步驟1，放置待清潔的薄膜沉積治具： 打開清潔裝置的真空腔體1，將待清潔的薄膜沉積治具放置在清潔臺2上，關閉真空腔體1； 步驟2，真空腔體抽真空： 第一步，啟動清潔裝置，開啟機械泵3，機械泵3開始對真空腔體1抽真空，至真空腔體1真空度恒定，關閉機械泵； 第二步，打開干燥氣貯罐8，干燥氣體通入真空腔體1，至真空腔室1壓力為1個大氣壓時，關閉干燥氣貯罐8，開啟機械泵3； 第三步，機械泵3對真空腔體1抽真空，至真空腔體1的真空度10-3Torr時，開啟分子泵4，至真空腔體1真空度恒定，關閉分子泵4，關閉機械泵3； 第四步，打開干燥氣貯罐8，真空腔體1通入干燥氣體，至真空腔體1達到1個大氣壓時，關閉干燥氣貯罐8，開啟機械泵3，至真空腔體1真空度10-3Torr，開啟分子泵，至真空腔體1真空度為1×10-6～1×10-7Torr，關閉分子泵4，關閉機械泵3； 步驟3，薄膜沉積治具清潔： 打開清潔氣貯罐7，清潔氣體通入真空腔體1，至真空腔體1氣壓為1×10-3～1×10-5Torr，保持恒定氣壓，至薄膜沉積治具上附著的膜層脫落。

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