北京北方華創微電子裝備有限公司劉東亮獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京北方華創微電子裝備有限公司申請的專利遮蔽盤組件檢測方法和半導體工藝設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119245505B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411240004.7,技術領域涉及:G01B11/00;該發明授權遮蔽盤組件檢測方法和半導體工藝設備是由劉東亮設計研發完成,并于2024-09-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本遮蔽盤組件檢測方法和半導體工藝設備在說明書摘要公布了:本發明提供了遮蔽盤組件檢測方法和半導體工藝設備,涉及半導體工藝技術領域,以解決遮蔽盤是否被放入遮蔽盤庫中難以檢測的問題。遮蔽盤組件檢測方法獲取遮蔽盤組件的圖像;基于圖像,獲取支撐臂上支撐點的位置;和或,基于圖像,獲取遮蔽盤本體中心點的位置,支撐點用于支撐遮蔽盤本體的中心點;基于支撐點的位置與第一預設位置之間的第一偏差,遮蔽盤本體中心的位置與第二預設位置的第二偏差,和或支撐點的位置與遮蔽盤本體的中心點的位置之間的第三偏差,確認支撐臂是否處于安全位置,遮蔽盤本體是否處于安全位置,和或遮蔽盤本體相對于支撐臂是否發生位移。其可以提高對遮蔽盤是否放入遮蔽盤庫檢測的便利性。
本發明授權遮蔽盤組件檢測方法和半導體工藝設備在權利要求書中公布了:1.一種遮蔽盤組件檢測方法,應用于半導體工藝腔室,其特征在于,所述遮蔽盤組件包括支撐臂(220)和遮蔽盤本體(210),所述支撐臂(220)的厚度大于所述遮蔽盤本體(210),所述檢測方法包括: 在支撐臂(220)將遮蔽盤本體(210)運輸至遮蔽盤庫(130)時,從下方獲取所述遮蔽盤組件的圖像,所述圖像包含支撐臂(220)的部分邊緣; 基于所述圖像,獲取所述支撐臂(220)上支撐點的位置;基于所述圖像,獲取所述遮蔽盤本體(210)中心點的位置,所述支撐點用于支撐所述遮蔽盤本體(210)的中心點; 基于所述支撐點的位置與第一預設位置之間的第一偏差,和所述支撐點的位置與所述遮蔽盤本體(210)的中心點的位置之間的第三偏差,確認所述支撐臂(220)是否處于安全位置,和所述遮蔽盤本體(210)相對于支撐臂(220)是否發生位移。
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